收藏到云盘
纠错反馈

GB/T 1558-2009 硅中代位碳原子含量 红外吸收测量方法

Test method for substitutional atomic carbon concent of silicon by infrared absorption
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 1558-2009
  • 名称:
    硅中代位碳原子含量 红外吸收测量方法
  • 英文名称:
    Test method for substitutional atomic carbon concent of silicon by infrared absorption
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2009-10-30
  • 实施日期:
    2010-06-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    实施公告【】
    • 阅读或下载 使用APP、PC客户端等功能更强大
    • 网页在线阅读 体验阅读、搜索等基本功能
    • 用户分享资源 来自网友们上传分享的文件
    • 纸书购买 平台官方及网友推荐
分类信息
  • ICS分类:
    电气工程(29) 半导体材料(29.045)
  • CCS分类:
    冶金(H) 半金属与半导体材料(H80/84) 半金属与半导体材料综合(H80)
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    本标准修改采用SEMIMF13910704《硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法》。
    本标准与SEMIMF13910704的主要差异如下:
    ---本标准在结构上主要依照我国国标编制格式,与SEMIMF13910704有所不同;
    ---本标准未引用偏差、关键词两章内容。
    本标准代替GB/T1558-1997《硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法》。
    本标准与原标准相比主要有以下变化:
    ---对测量的碳原子含量有效范围进行了修改,室温下从硅中代位碳原子含量5×1015at·cm-3(0.1ppma)到碳原子的最大溶解度,77K 时检测下限为5×1014at·cm-3(0.01ppma);
    ---补充了术语、干扰因素报告三章;
    ---在操作步骤中增加了仪器检查内容。
    本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。
    本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。
    本标准负责起草单位:信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所、峨嵋半导体材料厂。
    本标准主要起草人:何秀坤、李静、段曙光、梁洪。
    本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
    ---GB/T1558-1979、GB/T1558-1997。
  • 适用范围:
    暂无
  • 引用标准:
    下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
    GB/T6618 硅片厚度和总厚度变化测试方法
    GB/T14264 半导体材料术语
相关标准
  • 代替标准:
    GB/T 1558-1997
  • 引用标准:
    GB/T 6618 GB/T 14264
  • 采用标准:
    SEMI MF 1391-0704 硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法 (修改采用 MOD)
相关部门
  • 起草单位:
    中国电子科技集团公司第四十六研究所 信息产业部专用材料质量监督检验中心 峨嵋半导体材料厂
  • 归口单位:
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
  • 主管部门:
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
  • 提出部门:
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会
相关人员
暂无
关联标准
  • YS/T 679-2008 非本征半导体中少数载流子扩散长度的稳态表面光电压测试方法
  • GB/T 6620-2009 硅片翘曲度非接触式测试方法
  • SJ/T 11497-2015 砷化镓晶片热稳定性的试验方法
  • YS/T 543-2006 半导体键合铝-1%硅细丝
  • GB/T 14146-2009 硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法
  • GB/T 26065-2010 硅单晶抛光试验片规范
  • SJ/T 11490-2015 低位错密度砷化镓抛光片蚀坑密度的测量方法
  • SJ/T 11495-2015 硅中间隙氧的转换因子指南
  • GB/T 14264-1993 半导体材料术语
  • GB/T 29506-2013 300mm 硅单晶抛光片
  • DB65/T 3486-2013 新疆维吾尔自治区太阳能级多晶硅块红外探伤检测方法
  • YS/T 1061-2015 改良西门子法多晶硅用硅芯
  • GB/T 2881-2008 工业硅
  • GB/T 31474-2015 电子装联高质量内部互连用助焊剂
  • YS/T 28-2015 硅片包装
  • YS/T 223-1996
  • GB/T 12964-2018 硅单晶抛光片
  • GB/T 29851-2013 光伏电池用硅材料中B、Al受主杂质含量的二次离子质谱测量方法
  • GB/T 4061-2009 硅多晶断面夹层化学腐蚀检验方法
  • GB/T 36706-2018 磷化铟多晶
用户分享资源

GB/T 1558-2009 硅中代位碳原子含量 红外吸收测量方法

Test method for substitutional atomic ca...
上传文件
注:本列表内文件主要来源于网友们的分享上传。如您发现有不正确不合适的内容,请及时联系客服
纠错反馈
GB/T 1558-2009 硅中代位碳原子含量 红外吸收测量方法
提交反馈
分类列表
确定
上传文件
完全匿名 前台匿名 显示用户名 点击选择文件
{{uploadFile.name}} {{uploadFile.sizeStr}}
目前支持上传小于100MB的PDF、OCF、OCS格式文件
注:您上传文件即代表同意平台可以公开给所有用户下载。平台会根据您的选择及实际情况,为您发放相应的直接或分成奖励。平台也可以根据实际情况需要,对您上传到服务器的文件进行调整隐藏删除等,而无需通知到您。
联系客服

纸书购买链接招商中,联系客服入驻

客服QQ: 2449276725 1455033258

1098903864 1969329120

客服电话:0379-80883238

电子邮箱:ocsyun@126.com