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GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 17866-1999
  • 名称：
    掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则
  • 英文名称：
    Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    1999-09-13
  • 实施日期：
    2000-06-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    暂无
分类信息
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    暂无
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 16880-1997 SJ/T 10584-1994
  • 采用标准：
    SEMI P23:1993 （等同采用 IDT）
相关部门
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位：
    全国半导体材料和设备标准化技术委员会
  • 起草单位：
    中国科学院微电子中心
相关人员
暂无
关联标准