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GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法
Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning基本信息
- 标准号:GB/T 19922-2005
- 名称:硅片局部平整度非接触式标准测试方法
- 英文名称:Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
- 状态:现行
- 类型:国家标准
- 性质:推荐性
- 发布日期:2005-09-19
- 实施日期:2006-04-01
- 废止日期:暂无
- 相关公告:暂无
分类信息
- ICS分类:【 】
- CCS分类:【 】
- 行标分类:暂无
描述信息
- 前言:暂无
- 适用范围:暂无
- 引用标准:暂无
相关标准
- 引用标准:GB/T 14264 ASTMF 1530-94
相关部门
- 主管部门:工业和信息化部(电子)
- 起草单位:洛阳单晶硅有限责任公司
- 归口单位:信息产业部(电子)
相关人员
暂无
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