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GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
基本信息
-
标准号:
GB/T 37049-2018
-
名称:
电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
-
英文名称:
Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
-
状态:
现行
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类型:
国家标准
-
性质:
推荐性
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发布日期:
2018-12-28
-
实施日期:
2019-04-01
-
废止日期:
暂无
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相关公告:
实施公告【关于批准发布《农产品基本信息描述 谷物类》等国家标准和国家标准修改单的公告】
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金属化学分析方法(H10/19)
半金属及半导体材料分析方法(H17)
】
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