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GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 37049-2018
  • 名称：
    电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
  • 英文名称：
    Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2018-12-28
  • 实施日期：
    2019-04-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《农产品基本信息描述 谷物类》等国家标准和国家标准修改单的公告】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS)测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的方法。
    本标准适用于GB/T 12963中在基体金属杂质小于5 ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 12963 GB/T 14264 GB/T 25915.1-2010 JJF 1159 SEMI C1 SEMI F63
相关部门
  • 归口单位：
    2) 全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) 203/SC 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC
  • 起草单位：
    有研半导体材料有限公司 新特能源股份有限公司 江苏中能硅业科技发展有限公司 宜昌南玻硅材料有限公司 洛阳中硅高科技有限公司 青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
相关人员
暂无
关联标准