规范标准

Standard Resource
当前选择: ICS分类 电气工程(29) 半导体材料(29.045)
  • 标准号
  • 名称
  • 状态
  • 类型
  • 性质
  • 实施日期
  • GB/T 32651-2016
    采用高质量分辨率辉光放电质谱法测量太阳能级硅中痕量元素的测试方法
    现行
    国家标准
    推荐性
    2016-11-01
  • GB/T 32573-2016
    硅粉 总碳含量的测定 感应炉内燃烧后红外吸收法
    现行
    国家标准
    推荐性
    2016-11-01
  • SJ/T 11552-2015
    以布鲁斯特角入设P偏振辐射红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量
    现行
    行业标准
    推荐性
    2016-04-01
  • GB/T 31854-2015
    光伏电池用硅材料中金属杂质含量的电感耦合等离子体质谱测量方法
    现行
    国家标准
    推荐性
    2016-03-01
  • GB/T 31476-2015
    电子装联高质量内部互连用焊料
    现行
    国家标准
    推荐性
    2016-01-01
  • GB/T 31475-2015
    电子装联高质量内部互连用焊锡膏
    现行
    国家标准
    推荐性
    2016-01-01
  • GB/T 31474-2015
    电子装联高质量内部互连用助焊剂
    现行
    国家标准
    推荐性
    2016-01-01
  • SJ/T 11505-2015
    蓝宝石单晶抛光片规范
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11504-2015
    碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11503-2015
    碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11502-2015
    碳化硅单晶抛光片规范
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11500-2015
    碳化硅单晶晶向的测试方法
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11501-2015
    碳化硅单晶晶型的测试方法
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11498-2015
    重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11497-2015
    砷化镓晶片热稳定性的试验方法
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11499-2015
    碳化硅单晶电学性能的测试方法
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11496-2015
    红外吸收法测量砷化镓中硼含量
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11495-2015
    硅中间隙氧的转换因子指南
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11493-2015
    硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
  • SJ/T 11494-2015
    硅单晶中III-V族杂质的光致发光测试方法
    现行
    行业标准
    推荐性
    2015-10-01
共 199 条