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GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环

Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 41652-2022
  • 名称：
    刻蚀机用硅电极及硅环
  • 英文名称：
    Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
  • 状态：
    即将实施
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2022-07-11
  • 实施日期：
    2023-02-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《塑料 聚丙烯(PP)模塑和挤出材料 第1部分：命名系统和分类基础》等310项推荐性国家标准和5项国家标准修改单的公告】
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分类信息
  • ICS分类：
    【 电气工程（29） 半导体材料（29.045） 】
  • CCS分类：
    暂无
  • 行标分类：
    暂无
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    暂无
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
暂无
相关部门
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
  • 起草单位：
    浙江海纳半导体有限公司 有研半导体硅材料股份公司 山东有研半导体材料有限公司 新美光（苏州）半导体科技有限公司
  • 归口单位：
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会
相关人员
  • 起草人：
    潘金平 孙燕 闫志瑞 张果虎 库黎明 夏秋良
关联标准
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