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GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环
Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine基本信息
- 标准号:GB/T 41652-2022
- 名称:刻蚀机用硅电极及硅环
- 英文名称:Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
- 状态:即将实施
- 类型:国家标准
- 性质:推荐性
- 发布日期:2022-07-11
- 实施日期:2023-02-01
- 废止日期:暂无
- 相关公告:
分类信息
- ICS分类:【 】
- CCS分类:暂无
- 行标分类:暂无
描述信息
- 前言:暂无
- 适用范围:暂无
- 引用标准:暂无
相关标准
暂无
相关部门
- 主管部门:国家标准化管理委员会
- 起草单位:浙江海纳半导体有限公司 有研半导体硅材料股份公司 山东有研半导体材料有限公司 新美光(苏州)半导体科技有限公司
- 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
相关人员
- 起草人:潘金平 孙燕 闫志瑞 张果虎 库黎明 夏秋良
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