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GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染

Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 40110-2021
  • 名称:
    表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染
  • 英文名称:
    Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2021-05-21
  • 实施日期:
    2021-12-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
分类信息
描述信息
  • 前言:
    暂无
  • 适用范围:
    暂无
  • 引用标准:
    暂无
相关标准
  • 采用标准:
    ISO 14706: 2014 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染 (等同采用 IDT)
相关部门
  • 起草单位:
    中国计量科学研究院 华南理工大学
  • 主管部门:
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位:
    全国微束分析标准化技术委员会
相关人员
  • 起草人:
    王海 王梅玲 张艾蕊 任丹华 徐昕荣 范燕
关联标准