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GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法

Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 40279-2021
  • 名称：
    硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
  • 英文名称：
    Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2021-08-20
  • 实施日期：
    2022-03-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《钢铁及合金 硅含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》等450项推荐性国家标准和4项国家标准修改单的公告】
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分类信息
  • ICS分类：
    【 冶金（77） 金属材料试验（77.040） 】
  • CCS分类：
    【 冶金（H） 金属理化性能试验方法（H20/29） 金属物理性能试验方法（H21） 】
  • 行标分类：
    暂无
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    暂无
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
暂无
相关部门
  • 起草单位：
    有研半导体材料有限公司 浙江金瑞泓科技股份有限公司 浙江海纳半导体有限公司 山东有研半导体材料有限公司 中环领先半导体材料有限公司 开化县检验检测研究院 优尼康科技有限公司 麦斯克电子材料股份有限公司 翌颖科技（上海）有限公司
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位：
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会
相关人员
  • 起草人：
    胡晓亮 李扬 楼春兰 卢立延 潘金平 孙燕 徐继平 由佰玲 张海英 张雪囡 宁永铎 盘健冰
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