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GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法

Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
基本信息
分类信息
描述信息
  • 前言:
    暂无
  • 适用范围:
    暂无
  • 引用标准:
    暂无
相关标准
暂无
相关部门
  • 起草单位:
    有研半导体材料有限公司 浙江金瑞泓科技股份有限公司 浙江海纳半导体有限公司 山东有研半导体材料有限公司 中环领先半导体材料有限公司 开化县检验检测研究院 优尼康科技有限公司 麦斯克电子材料股份有限公司 翌颖科技(上海)有限公司
  • 主管部门:
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位:
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会
相关人员
  • 起草人:
    胡晓亮 李扬 楼春兰 卢立延 潘金平 孙燕 徐继平 由佰玲 张海英 张雪囡 宁永铎 盘健冰
关联标准