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GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method基本信息
- 标准号:GB/T 40279-2021
- 名称:硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
- 英文名称:Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
- 状态:现行
- 类型:国家标准
- 性质:推荐性
- 发布日期:2021-08-20
- 实施日期:2022-03-01
- 废止日期:暂无
- 相关公告:
分类信息
- ICS分类:【 】
- CCS分类:【 】
- 行标分类:暂无
描述信息
- 前言:暂无
- 适用范围:暂无
- 引用标准:暂无
相关标准
暂无
相关部门
- 起草单位:有研半导体材料有限公司 浙江金瑞泓科技股份有限公司 浙江海纳半导体有限公司 山东有研半导体材料有限公司 中环领先半导体材料有限公司 开化县检验检测研究院 优尼康科技有限公司 麦斯克电子材料股份有限公司 翌颖科技(上海)有限公司
- 主管部门:国家标准化管理委员会
- 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
相关人员
- 起草人:胡晓亮 李扬 楼春兰 卢立延 潘金平 孙燕 徐继平 由佰玲 张海英 张雪囡 宁永铎 盘健冰
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