收藏到云盘
纠错反馈

GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法

Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 41064-2021
  • 名称：
    表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
  • 英文名称：
    Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2021-12-31
  • 实施日期：
    2022-07-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《全息位置地图数据内容》等530项推荐性国家标准和2项国家标准修改单的公告】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    暂无
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 采用标准：
    ISO 17109：2015 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法 （等同采用 IDT）
相关部门
  • 起草单位：
    清华大学 中国石油大学(北京) 中国石油大学(北京) 中国石油大学（北京）
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位：
    全国微束分析标准化技术委员会
相关人员
暂无
关联标准