Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
状态：
现行
类型：
国家标准
性质：
推荐性
发布日期：
2021-12-31
实施日期：
2022-07-01
废止日期：
暂无
相关公告：
实施公告【关于批准发布《全息位置地图数据内容》等530项推荐性国家标准和2项国家标准修改单的公告】
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分类信息
ICS分类：
【化工技术（71）分析化学（71.040）化学分析（71.040.40）】
CCS分类：
【化工（G）化工综合（G00/09）基础标准与通用方法（G04）】
行标分类：
暂无
描述信息
前言：
暂无
适用范围：
暂无
引用标准：
暂无
相关标准
采用标准：
ISO 17109：2015 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法 （等同采用 IDT）
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