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GB 11297.6-1989 锑化铟单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法

Standard method for showing and measuring dislocation etch pits in Indium Antimonide single crystal
基本信息
  • 标准号:
    GB 11297.6-1989
  • 名称:
    锑化铟单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法
  • 英文名称:
    Standard method for showing and measuring dislocation etch pits in Indium Antimonide single crystal
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    暂无
  • 性质:
    强制性
  • 发布日期:
    1988-10-09
  • 实施日期:
    1990-01-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    暂无
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分类信息
  • ICS分类:
    暂无
  • CCS分类:
    电子元器件与信息技术(L) 电子设备与专用材料、零件、结构件(L90/94) 电子技术专用材料(L90)
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    暂无
  • 适用范围:
    在晶体中,由于缺陷处的势能较高,在缺陷处的腐蚀速率较大,在适当的腐蚀剂中,当缺陷处的腐蚀速率远高于完整晶面的腐蚀速率时,在缺陷处就会形成位错蚀坑和其他斑痕,在金相显微镜下可以观测多种缺陷。
  • 引用标准:
    暂无
相关标准
暂无
相关部门
  • 主管部门:
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位:
    全国半导体材料和设备标准化技术委员会
  • 起草单位:
    机械电子工业部第十一研究所
相关人员
  • 起草人:
    李文华
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