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YS/T 23-1992 硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法

基本信息
  • 标准号:
    YS/T 23-1992
  • 名称:
    硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法
  • 英文名称:
    暂无
  • 状态:
    被代替
  • 类型:
    行业标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    1992-03-09
  • 实施日期:
    1993-01-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    修订公告【2016年第6号(总第198号)】
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分类信息
  • ICS分类:
    【 电气工程(29) 半导体材料(29.045) 】
  • CCS分类:
    【 冶金(H) 半金属与半导体材料(H80/84) 半金属与半导体材料综合(H80) 】
  • 行标分类:
    【 有色冶金(YS) 】
描述信息
  • 前言:
    暂无
  • 适用范围:
    本标 准 规 定了根据堆垛层错尺寸测量硅处延层厚度的方法
    本标 准 适 用于在,tloo>和(110)晶向的硅单晶衬底仁生长的硅外延层厚度的测缝
    外延 层 中 应存在着发育完整的堆垛层错,其大小可用干涉相衬显微镜r:接观察(非破坏性的),或经化学腐蚀后用金相显微镜观察(破坏性的)。测量范围为2^75 um.
  • 引用标准:
    暂无
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暂无
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暂无
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暂无
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