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GB/T 14847-1993 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 14847-1993
  • 名称:
    重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
  • 英文名称:
    Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance
  • 状态:
    废止
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    1993-12-30
  • 实施日期:
    1994-09-01
  • 废止日期:
    2011-10-01
  • 相关公告:
    修订公告【关于批准发布《紧固件 质量保证体系》等410项国家标准的公告】
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分类信息
  • ICS分类:
    暂无
  • CCS分类:
    冶金(H) 金属理化性能试验方法(H20/29) 金属物理性能试验方法(H21)
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    暂无
  • 适用范围:
    暂无
  • 引用标准:
    暂无
相关标准
  • 引用标准:
    GB 6379
  • 采用标准:
    ASTM F95:1989 (等效采用 EQV)
相关部门
  • 主管部门:
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位:
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 起草单位:
    机电部四十六所
相关人员
暂无
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