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GB/T 4058-1995 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
基本信息
分类信息
-
ICS分类：
【
冶金（77）
金属材料试验（77.040）
金属材料化学分析（77.040.30）
】
-
CCS分类：
【
冶金（H）
金属理化性能试验方法（H20/29）
金属无损检验方法（H26）
】
-
行标分类：
暂无
描述信息
相关标准
相关部门
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主管部门：
国家标准化管理委员会
-
归口单位：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
-
起草单位：
峨嵋半导体材料厂
相关人员
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