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GB/T 4058-1995 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 4058-1995
  • 名称：
    硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
  • 英文名称：
    Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
  • 状态：
    废止
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    1995-04-18
  • 实施日期：
    1995-12-01
  • 废止日期：
    2010-06-01
  • 相关公告：
    修订公告【】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    暂无
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 代替标准：
    GB 4058-1983 GB 6622-1986 GB 6623-1986
  • 引用标准：
    GB/T 1554 YS/T 209
  • 采用标准：
    ASTM F47:1988 （等效采用 EQV）
相关部门
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位：
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 起草单位：
    峨嵋半导体材料厂
相关人员
暂无
关联标准