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GB/T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则

Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 16879-1997
  • 名称：
    掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
  • 英文名称：
    Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    1997-06-20
  • 实施日期：
    1998-03-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    暂无
分类信息
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    暂无
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 引用标准：
    SJ/T 10152-91 SJ/T 10584-94
  • 采用标准：
    SEMI P21:1992 （等同采用 IDT）
相关部门
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位：
    全国半导体材料和设备标准化技术委员会
  • 起草单位：
    中国科学院微电子中心
相关人员
暂无
关联标准