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GB/T 17169-1997 硅抛光片和外延片表面质量光反射测试方法

Test method for the surface quality of polished silicon wafers and epitaxial wafers by optical-reflection
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 17169-1997
  • 名称:
    硅抛光片和外延片表面质量光反射测试方法
  • 英文名称:
    Test method for the surface quality of polished silicon wafers and epitaxial wafers by optical-reflection
  • 状态:
    废止
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    1997-12-22
  • 实施日期:
    1998-08-01
  • 废止日期:
    2004-10-14
  • 相关公告:
    暂无
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分类信息
  • ICS分类:
    电气工程(29) 半导体材料(29.045)
  • CCS分类:
    冶金(H) 金属理化性能试验方法(H20/29) 金相检验方法(H24)
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    暂无
  • 适用范围:
    暂无
  • 引用标准:
    暂无
相关标准
  • 引用标准:
    GB/T 6624-1995 GB/T 14142-93 GB/T 14262-93
相关部门
  • 起草单位:
    南开大学 天津市半导体材料厂
  • 主管部门:
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位:
    全国半导体材料和设备标准化技术委员会
相关人员
暂无
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