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GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法

Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 19444-2004
  • 名称：
    硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法
  • 英文名称：
    Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2004-02-05
  • 实施日期：
    2004-07-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    暂无
分类信息
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    暂无
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 1557 GB/T 14143 GB/T 14144
相关部门
  • 起草单位：
    中国有色金属工业标准计量质量研究所 洛阳单晶硅有限责任公司
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位：
    全国半导体材料和设备标准化技术委员会
相关人员
暂无
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