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GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法
Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
基本信息
分类信息
-
ICS分类：
【
电气工程（29）
绝缘流体（29.040）
】、
【
电气工程（29）
绝缘流体（29.040）
绝缘流体综合（29.040.01）
】
-
CCS分类：
【
冶金（H）
金属理化性能试验方法（H20/29）
金属无损检验方法（H26）
】
-
行标分类：
暂无
描述信息
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