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GB/T 1557-2006 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法

The method of determining interstitial oxygen content in silicon by infrared absorption
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 1557-2006
  • 名称:
    硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
  • 英文名称:
    The method of determining interstitial oxygen content in silicon by infrared absorption
  • 状态:
    废止
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2006-07-18
  • 实施日期:
    2006-11-01
  • 废止日期:
    2019-06-02
  • 相关公告:
    实施公告【】
    修订公告【关于批准发布《中小学校普通教室照明设计安装卫生要求》等454项国家标准和6项国家标准修改单的公告】
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分类信息
  • ICS分类:
    冶金(77) 金属材料试验(77.040) 金属材料试验综合(77.040.01) 】、
    冶金(77) 金属材料试验(77.040) 金属材料化学分析(77.040.30)
  • CCS分类:
    冶金(H) 金属化学分析方法(H10/19) 半金属及半导体材料分析方法(H17) 】、
    冶金(H) 金属理化性能试验方法(H20/29) 金属物理性能试验方法(H21)
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    暂无
  • 适用范围:
    本标准规定了采用红外光谱法测定硅单晶中的间隙氧含量的方法。
    本标准适用于室温电阻率大于0.1 Ω·cm的n型硅单晶和室温电阻率大于0.5 Ω·cm的p型硅单晶中间隙氧含量的测量。
    本标准测量氧含量的有效范围从1×1016at·cm-3到硅中间隙氧的最大固溶度。
  • 引用标准:
    暂无
相关标准
  • 代替标准:
    GB 1557-1983 GB/T 1557-1989 GB/T 14143-1993
  • 引用标准:
    GB/T 14264 ASTM E 131
相关部门
  • 提出部门:
    中国有色金属工业协会
  • 主管部门:
    中国有色金属工业协会
  • 归口单位:
    全国有色金属标准化技术委员会
  • 起草单位:
    峨眉半导体材料厂
相关人员
暂无
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