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GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 20176-2006
  • 名称:
    表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
  • 英文名称:
    Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2006-03-27
  • 实施日期:
    2006-11-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    实施公告【】
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分类信息
  • ICS分类:
    化工技术(71) 分析化学(71.040) 化学分析(71.040.40)
  • CCS分类:
    仪器、仪表(N) 光学仪器(N30/39) 电子光学与其他物理光学仪器(N33)
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    暂无
  • 适用范围:
    本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质(用注入硼的参考物质校准)确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10 16 atoms/cm 3~1×10 20 atoms/cm3。
  • 引用标准:
    暂无
相关标准
  • 引用标准:
    ISO 5725-2:1994
  • 采用标准:
    ISO 14237:2000 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 (等同采用 IDT)
相关部门
  • 主管部门:
    国家标准化管理委员会
  • 提出部门:
    全国微束分析标准化技术委员会
  • 归口单位:
    全国微束分析标准化技术委员会
  • 起草单位:
    清华大学电子工程系
相关人员
暂无
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