收藏到云盘
纠错反馈
YS/T 679-2008 非本征半导体中少数载流子扩散长度的稳态表面光电压测试方法
Test methods for minority carrier diffusion length in extrinsic semiconductors by measurement of steady-state surface photovoltage
基本信息
分类信息
-
ICS分类:
【
电气工程(29)
半导体材料(29.045)
】
-
CCS分类:
【
冶金(H)
半金属与半导体材料(H80/84)
半金属与半导体材料综合(H80)
】
-
行标分类:
描述信息
-
前言:
本标准修改采用SEMIMF391-1106《非本征半导体中少数载流子扩散长度的稳态表面光电压测试方法》。
本标准与SEMIMF391-1106相比主要有如下变化:
---标准格式按GB/T1.1要求编排;
---将SEMIMF391-1106中的部分注转换为正文;
---将SEMIMF391-1106中部分内容进行了编排。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。
本标准由有研半导体材料股份有限公司负责起草。
本标准主要起草人:孙燕、卢立延、杜娟、李俊峰、翟富义。
-
适用范围:
.1 本标准适用于非本征单晶半导体材料样品或相同导电类型重掺衬底上沉积已知电阻率的同质外延层中的少数载流子扩散长度的测量。要求样品或外延层厚度大于4倍的扩散长度。
1.2 本标准是为单晶硅样品的应用而开发的,可用于测量其他半导体,如砷化镓(同时调整相应的光照波长(能量)范围和样品的制备工艺)上的有效扩散长度和评价晶粒间界垂直于表面的多晶硅样品上有效扩散长度。本标准也可用于硅片的洁净区的宽度测定。
1.3 本标准对样品的电阻率和寿命的应用极限尚未确定,但已经成功的对电阻率(0.1~50)Ω·cm、载流子寿命短至2 ns的p和n型硅样品进行了测量。本标准测量的扩散长度仅在室温22℃±0.5℃下进行,寿命和扩散长度是温度的函数。
-
引用标准:
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
GB/T1552 硅、锗单晶电阻率测定 直排四探针法
GB/T1553 硅和锗体内少数载流子寿命测定 光电导衰减法
GB/T6616 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法
GB/T6618 硅片厚度和总厚度变化测试方法
GB/T11446.1 电子级水
GB/T14264 半导体材料术语
GB/T14847 重掺衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
相关标准
相关部门
相关人员
关联标准
-
YS/T 1171.12-2021
再生锌原料化学分析方法 第12部分:铟含量的测定 火焰原子吸收光谱法
-
YS/T 226.8-2009
硒化学分析方法 第8部分:铜量的测定 火焰原子吸收光谱法
-
YS/T 535.1-2009
氟化钠化学分析方法 第1部分:湿存水含量的测定 重量法
-
YS/T 1115.13-2016
铜原矿和尾矿化学分析方法 第13 部分:氟量的测定 离子选择电极法和离子色谱法
-
YS/T 728-2016
铝合金建筑型材用丙烯酸电泳涂料
-
YS/T 535.3-2009
氟化钠化学分析方法 第3部分:硅含量的测定 钼蓝分光光度法
-
YS/T 410-1998
磁头用工业纯钛箔
-
YS/T 63.12-2006
铝用碳素材料检测方法 第12部分:预焙阳极CO2反应性的测定 质量损失法
-
YS/T 1118-2016
正丙基钠/钾黄药
-
YS/T 587.3-2007
炭阳极用煅后石油焦检测方法 第3部分: 挥发分含量的测定
-
YS/T 1323-2019
四氨合硝酸铂
-
YS/T 463-2003
铜及铜合金板带箔材产品缺陷
-
YS/T 746.7-2010
无铅锡基焊料化学分析方法 第7部分:铁含量的测定 火焰原子吸收光谱法
-
YS/T 712-2009
手机电池壳用铝合金板、带材
-
GB/T 29055-2012
太阳电池用多晶硅片
-
YS/T 1012-2014
高纯镍化学分析方法 杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
-
YS/T 633-2015
四氧化三钴
-
YS/T 358.10-2011
钽铁、铌铁精矿化学分析方法 第10部分:锡量的测定 碘酸钾滴定法
-
YS/T 427-2012
五氧化二钽
-
YS/T 1181-2016
海绵钛安全生产规范