收藏到云盘
纠错反馈
YS/T 679-2008 非本征半导体中少数载流子扩散长度的稳态表面光电压测试方法
Test methods for minority carrier diffusion length in extrinsic semiconductors by measurement of steady-state surface photovoltage
基本信息
分类信息
-
ICS分类:
【
电气工程(29)
半导体材料(29.045)
】
-
CCS分类:
【
冶金(H)
半金属与半导体材料(H80/84)
半金属与半导体材料综合(H80)
】
-
行标分类:
描述信息
-
前言:
本标准修改采用SEMIMF391-1106《非本征半导体中少数载流子扩散长度的稳态表面光电压测试方法》。
本标准与SEMIMF391-1106相比主要有如下变化:
---标准格式按GB/T1.1要求编排;
---将SEMIMF391-1106中的部分注转换为正文;
---将SEMIMF391-1106中部分内容进行了编排。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。
本标准由有研半导体材料股份有限公司负责起草。
本标准主要起草人:孙燕、卢立延、杜娟、李俊峰、翟富义。
-
适用范围:
.1 本标准适用于非本征单晶半导体材料样品或相同导电类型重掺衬底上沉积已知电阻率的同质外延层中的少数载流子扩散长度的测量。要求样品或外延层厚度大于4倍的扩散长度。
1.2 本标准是为单晶硅样品的应用而开发的,可用于测量其他半导体,如砷化镓(同时调整相应的光照波长(能量)范围和样品的制备工艺)上的有效扩散长度和评价晶粒间界垂直于表面的多晶硅样品上有效扩散长度。本标准也可用于硅片的洁净区的宽度测定。
1.3 本标准对样品的电阻率和寿命的应用极限尚未确定,但已经成功的对电阻率(0.1~50)Ω·cm、载流子寿命短至2 ns的p和n型硅样品进行了测量。本标准测量的扩散长度仅在室温22℃±0.5℃下进行,寿命和扩散长度是温度的函数。
-
引用标准:
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
GB/T1552 硅、锗单晶电阻率测定 直排四探针法
GB/T1553 硅和锗体内少数载流子寿命测定 光电导衰减法
GB/T6616 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法
GB/T6618 硅片厚度和总厚度变化测试方法
GB/T11446.1 电子级水
GB/T14264 半导体材料术语
GB/T14847 重掺衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
相关标准
相关部门
相关人员
关联标准
-
YS/T 677-2008
锰酸锂
-
YS/T 1501-2021
含铜贵金属材料氧化亚铜金相检验方法
-
YS/T 775.3-2011
铅阳极泥化学分析方法 第3部分:砷量的测定 溴酸钾滴定法
-
YS/T 455.6-2003
铝箔试验方法 第6部分:铝箔其它相关试验方法
-
YS/T 226.5-2009
硒化学分析方法 第5部分:硅量的测定 硅钼蓝分光光度法
-
YS/T 256-2000
氧化钴
-
YS/T 370-2006
贵金属及其合金的金相试样制备方法
-
YS/T 1186-2017
铝表面阳极氧化膜与有机聚合物膜耐磨性能测试用落砂试验仪
-
YS/T 592-2006
电镀用氰化亚金钾
-
YS/T 3009-2012
黄金矿地下水动态观测技术规范
-
GB/T 35310-2017
200mm硅外延片
-
YS/T 569.6-2015
铊化学分析方法 第6部分:铅量的测定 双硫腙苯萃取分光光度法
-
YS/T 3015.5-2017
载金炭化学分析方法 第5部分:铅、锌、铋、镉和铬量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
-
YS/T 667.4-2009
化学品氧化铝化学分析方法 第4部分:4A沸石中砷、汞含量的测定 氢化物发生-电感耦合等离子体发射光谱法
-
YS/T 56-2012
金属粉末-自然坡度角的测定
-
YS/T 37.2-2007
高纯二氧化锗化学分析方法 钼蓝分光光度法测定硅量
-
YS/T 913-2013
锆及锆合金饼和环
-
YS/T 590-2012
变形铝及铝合金扁铸锭
-
YS/T 474-2021
高纯镓化学分析方法 痕量元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
-
YS/T 63.9-2006
铝用炭素材料检测方法 第9部分:真密度的测定 氦比重计法