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GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 14849.4-2008
  • 名称：
    工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
  • 英文名称：
    Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
  • 状态：
    废止
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2008-06-09
  • 实施日期：
    2008-12-01
  • 废止日期：
    2015-08-01
  • 相关公告：
    实施公告【】
    修订公告【关于批准发布《热交换器》等234项国家标准的公告】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。
    本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定，测定范围见表1。
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
暂无
相关部门
  • 提出部门：
    中国有色金属工业协会
  • 主管部门：
    中国有色金属工业协会
  • 归口单位：
    全国有色金属标准化技术委员会
  • 起草单位：
    中国铝业股份有限公司郑州研究院 中国有色金属工业标准计量质量研究所等
相关人员
暂无
关联标准