收藏到云盘
纠错反馈
YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
基本信息
分类信息
-
ICS分类：
【
冶金（77）
有色金属产品（77.150）
其他有色金属产品（77.150.99）
】
-
CCS分类：
【
冶金（H）
有色金属及其合金产品（H60/69）
稀有高熔点金属及其合金（H63）
】
-
行标分类：
描述信息
-
前言：
本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。
本标准负责起草单位:利达光电股份有限公司。
本标准主要起草人:李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。
-
适用范围：
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
-
引用标准：
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
GB/T1551 硅、锗单晶电阻率测定 直流两探针法
GB/T2040 铜及铜合金板材
GB/T5121(所有部分) 铜及铜合金化学分析方法
GB/T5231 加工铜及铜合金化学成分和产品形状
GB/T12963 硅多晶
相关标准
相关部门
相关人员
关联标准
-
YS/T 555.4-2009
钼精矿化学分析方法 锡量的测定 原子荧光光谱法
-
YS/T 244.1-2008
高纯铝化学分析方法 第1部分：邻二氮杂菲-硫氰酸盐光度法测定铁含量
-
YS/T 245-1994
粉冶钼合金顶头
-
YS/T 97-2012
凿岩机用铝合金管材
-
YS/T 56-2012
金属粉末－自然坡度角的测定
-
YS/T 763-2019
石墨化阴极炭块用煅后石油焦
-
YS/T 1240-2018
超塑性TC4板材显微组织检验方法
-
YS/T 1098-2016
全自动车床专用再生黄铜棒
-
YS/T 1474-2021
锆合金管材高温内压爆破试验方法
-
YS/T 325.6-2009
镍铜合金化学分析方法 第6部分：钛量的测定 二安替吡啉甲烷分光光度法
-
GB/T 3628-1995
钽及钽合金箔材
-
YS/T 472.5-2005
镍精矿、钴硫精矿化学分析方法 砷量的测定 氢化物发生 原子荧光光谱法
-
YS/T 1346-2020
铜砷滤饼化学分析方法 铼含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
-
YS/T 416-1999
氢气净化用钯合金管材
-
YS/T 581.2-2006
氟化铝化学分析方法和物理性能测定方法 第2部分：烧减量的测定
-
YS/T 1435-2021
电磁屏蔽用压延铜箔
-
YS/T 65-2012
铝电解用阴极糊
-
GB/T 4325.22-2013
钼化学分析方法 第22部分：磷量的测定 钼蓝分光光度法
-
YS/T 1229.4-2018
粗氢氧化镍化学分析方法 第4部分：氯量的测定 比浊法
-
YS/T 568.2-2008
氧化锆、氧化铪化学分析方法 铁量的测定 磺基水杨酸分光光度法
打开设置，点击
执行注册
