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YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
基本信息
分类信息
-
ICS分类：
【
冶金（77）
有色金属产品（77.150）
其他有色金属产品（77.150.99）
】
-
CCS分类：
【
冶金（H）
有色金属及其合金产品（H60/69）
稀有高熔点金属及其合金（H63）
】
-
行标分类：
描述信息
-
前言：
本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。
本标准负责起草单位:利达光电股份有限公司。
本标准主要起草人:李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。
-
适用范围：
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
-
引用标准：
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
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