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YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
基本信息
  • 标准号：
    YS/T 719-2009
  • 名称：
    平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
  • 英文名称：
    Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    行业标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2009-12-04
  • 实施日期：
    2010-06-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【2010年第4号(总第124号)】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。
    本标准负责起草单位:利达光电股份有限公司。
    本标准主要起草人:李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。
  • 适用范围：
    本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。
    本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
  • 引用标准：
    下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
    GB/T1551 硅、锗单晶电阻率测定 直流两探针法
    GB/T2040 铜及铜合金板材
    GB/T5121(所有部分) 铜及铜合金化学分析方法
    GB/T5231 加工铜及铜合金化学成分和产品形状
    GB/T12963 硅多晶
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 1551 GB/T 2040 GB/T 5121(所有部分) GB/T 5231 GB/T 12963
相关部门
  • 起草单位：
    利达光电股份有限公司
相关人员
暂无
关联标准