收藏到云盘
纠错反馈

YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

Flat magneting sputtering target—Niobium target for optical coating
基本信息
  • 标准号:
    YS/T 718-2009
  • 名称:
    平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
  • 英文名称:
    Flat magneting sputtering target—Niobium target for optical coating
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    行业标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2009-12-04
  • 实施日期:
    2010-06-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    实施公告【2010年第4号(总第124号)】
    • 阅读或下载 使用APP、PC客户端等功能更强大
    • 网页在线阅读 体验阅读、搜索等基本功能
    • 用户分享资源 来自网友们上传分享的文件
    • 纸书购买 平台官方及网友推荐
分类信息
  • ICS分类:
    冶金(77) 有色金属产品(77.150) 其他有色金属产品(77.150.99)
  • CCS分类:
    冶金(H) 有色金属及其合金产品(H60/69) 稀有高熔点金属及其合金(H63)
  • 行标分类:
    有色冶金(YS)
描述信息
  • 前言:
    本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口.
    本标准起草单位:金川集团有限公司.
    本标准主要起草人:汪锦瑞、宋谋通、郭大鹏、李娟、林秀英、吴亚辉.
  • 适用范围:
    本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。
  • 引用标准:
    GB/T1479 金属粉末松装密度的测定 第1部分:漏斗法
    GB/T1480 金属粉末粒度组成的测定 干筛分法
    GB/T5158 金属粉末 在氢中还原时质量损失的测定(氢损)
    GB/T5247-1985 电解镍粉
    GB/T5314 粉末冶金用粉末的取样方法
    GB/T8647.8 镍化学分析方法 碳量的测定 高频感应炉燃烧红外吸收法
    GB/T8647.9 镍化学分析方法 硫量的测定 高频感应炉燃烧红外吸收法
    GB/T8647.10 镍化学分析方法砷、镉、铅、锌、锑、铋、锡、钴、铜、锰、镁、硅、铝、铁量的测定射光谱法
相关标准
  • 引用标准:
    GB/T 2040 GB/T 3630 GB/T 5121(所有部分) GB/T 5231 GB/T 6394 GB/T 15076(所有部分)
相关部门
  • 起草单位:
    金川集团有限公司
相关人员
暂无
关联标准
  • YS/T 894-2018 铼酸铵
  • YS/T 1341.1-2019 粗锌化学分析方法 第1部分:锌含量的测定 Na2EDTA滴定法
  • YS/T 755-2011 亚硝酰基硝酸钌
  • YS/T 358.11-2011 钽铁、铌铁精矿化学分析方法 第11部分:锰量的测定 原子吸收光谱法
  • YS/T 73-2011 副产品氧化锌
  • YS/T 495-2005 镁合金热挤压管材
  • YS/T 858-2013 锆精矿
  • YS/T 13-2015 高纯四氯化锗
  • YS/T 635-2018 卫生洁具用黄铜管
  • YS/T 259-1996 冶金用钽粉
  • YS/T 1318.1-2019 硫酸四氨钯化学分析方法 第1部分:钯含量的测定 丁二酮肟重量法
  • YS/T 756-2011 碳酸铯
  • YS/T 807.10-2012 铝中间合金化学分析方法 第10部分:钾含量的测定 火焰原子吸收光谱法
  • YS/T 1078-2015 钒铝锡铬中间合金
  • YS/T 540.2-2018 钒化学分析方法 第2部分:铬量的测定 二苯基碳酰二肼分光光度法
  • YS/T 67-2012 变形铝及铝合金圆铸锭
  • YS/T 3009-2012 黄金矿地下水动态观测技术规范
  • YS/T 1462.3-2021 粗锡化学分析方法 第3部分:铜含量的测定 火焰原子吸收光谱法和碘量法
  • YS/T 226.2-2009 硒化学分析方法 第2部分:锑量的测定 氢化物发生-原子荧光光谱法
  • YS/T 617.3-2007 铝、镁及其合金粉理化性能测定方法 第3部分: 水分的测定 干燥失重法
用户分享资源

YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

Flat magneting sputtering target—Niobium...
上传文件
注:本列表内文件主要来源于网友们的分享上传。如您发现有不正确不合适的内容,请及时联系客服
纠错反馈
YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
提交反馈
分类列表
确定
上传文件
完全匿名 前台匿名 显示用户名 点击选择文件
{{uploadFile.name}} {{uploadFile.sizeStr}}
目前支持上传小于100MB的PDF、OCF、OCS格式文件
注:您上传文件即代表同意平台可以公开给所有用户下载。平台会根据您的选择及实际情况,为您发放相应的直接或分成奖励。平台也可以根据实际情况需要,对您上传到服务器的文件进行调整隐藏删除等,而无需通知到您。
联系客服

纸书购买链接招商中,联系客服入驻

客服QQ: 2449276725 1455033258

1098903864 1969329120

客服电话:0379-80883238

电子邮箱:ocsyun@126.com