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YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
Flat magneting sputtering target—Niobium target for optical coating
基本信息
分类信息
-
ICS分类：
【
冶金（77）
有色金属产品（77.150）
其他有色金属产品（77.150.99）
】
-
CCS分类：
【
冶金（H）
有色金属及其合金产品（H60/69）
稀有高熔点金属及其合金（H63）
】
-
行标分类：
描述信息
-
前言：
本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口.
本标准起草单位:金川集团有限公司.
本标准主要起草人:汪锦瑞、宋谋通、郭大鹏、李娟、林秀英、吴亚辉.
-
适用范围：
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。
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引用标准：
GB/T1479 金属粉末松装密度的测定 第1部分:漏斗法
GB/T1480 金属粉末粒度组成的测定 干筛分法
GB/T5158 金属粉末 在氢中还原时质量损失的测定(氢损)
GB/T5247-1985 电解镍粉
GB/T5314 粉末冶金用粉末的取样方法
GB/T8647.8 镍化学分析方法 碳量的测定 高频感应炉燃烧红外吸收法
GB/T8647.9 镍化学分析方法 硫量的测定 高频感应炉燃烧红外吸收法
GB/T8647.10 镍化学分析方法砷、镉、铅、锌、锑、铋、锡、钴、铜、锰、镁、硅、铝、铁量的测定射光谱法
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