收藏到云盘
纠错反馈

GB/T 24576-2009 高分辩率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法

Test method for measuring the Al fraction in AlGaAs on GaAs substrates by high resolution X-ray diffraction
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 24576-2009
  • 名称：
    高分辩率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法
  • 英文名称：
    Test method for measuring the Al fraction in AlGaAs on GaAs substrates by high resolution X-ray diffraction
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2009-10-30
  • 实施日期：
    2010-06-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    本标准技术内容等同采用SMEIM630306《准则:采用高分辨率X 光衍射法测量砷化镓衬底上
    AlGaAs中Al百分含量的测试方法》。本标准对SMEIM630306进行了编辑性修改。
    本标准的附录A 为资料性附录。
    本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。
    本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。
    本标准起草单位:信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所。
    本标准主要起草人:章安辉、黄庆涛、何秀坤。
  • 适用范围：
    本标准规定了用高分辨X射线衍射测量GaAs衬底上AlGaAs外延层中Al含量的试验方法。
    本方法适用于在未掺杂GaAs衬底方向上生长的AlGaAs外延层中Al含量的测定，使用本方法测量Al元素含量时，AlGaAs外延层厚度应大于300 nm。
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 采用标准：
    SMEI M63-0306 准则：采用高分辨率X光衍射法测量砷化镓衬底上AlGaAs中Al百分含量的测试方法 （等同采用 IDT）
相关部门
  • 起草单位：
    中国电子科技集团公司第四十六研究所 信息产业部专用材料质量监督检验中心
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
  • 归口单位：
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
  • 提出部门：
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会
相关人员
暂无
关联标准