收藏到云盘
纠错反馈
GB/T 10118-2009 高纯镓
High purity gallium基本信息
- 标准号:GB/T 10118-2009
- 名称:高纯镓
- 英文名称:High purity gallium
- 状态:现行
- 类型:国家标准
- 性质:推荐性
- 发布日期:2009-10-30
- 实施日期:2010-06-01
- 废止日期:暂无
- 相关公告:
分类信息
- ICS分类:【 】
- CCS分类:【 】
- 行标分类:暂无
描述信息
- 前言:本标准代替GB/T10118-1988《高纯镓》。
本标准与GB/T10118-1988相比,主要有如下变动:
---增加了检出杂质元素的种类;
---降低了原标准中检出杂质元素的含量;
---引入了MBE 级牌号高纯镓;
---对原标准的试验方法进行了修改,增加了辉光质谱法等。
本标准的附录A 为资料性附录。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。
本标准负责起草单位:国瑞电子材料有限责任公司。
本标准参加起草单位:南京金美镓业有限公司。
本标准主要起草人:于洪国、邢志国。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
---GB/T10118-1988。 - 适用范围:本标准规定了高纯镓的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容等。
本标准适用于以纯度不小于99.99%的工业镓为原料,经电解精炼、拉制单晶或其他提纯工艺制得的纯度不小于99.999 9%的镓。产品供制备化合物半导体材料和高纯合金。 - 引用标准:下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
YS/T474 ICPMS分析法测定高纯镓中的痕量元素
相关标准
- 代替标准:GB/T 10118-1988
- 引用标准:YS/T 474
相关部门
- 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
- 主管部门:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
- 提出部门:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 起草单位:国瑞电子材料有限责任公司
相关人员
暂无
关联标准
- GB/T 8750-2007 半导体器件键合用金丝
- YS/T 1162-2016 铟条
- XB/T 204-2006 氧化镥
- YS/T 579-2006 钒铝中间合金
- YS/T 741-2010 氧化镓
- GB/T 8769-2010 锆及锆合金棒材和丝材
- XB/T 903-2002 烧结钕铁硼永磁材料 表面电镀层
- YS/T 937-2013 镍铂靶材
- GB/T 11070-2017 还原锗锭
- GB/T 1475-2005 镓
- GB/T 913-2012 汞
- YS/T 788-2012 氢化锂
- GB/T 11066.4-2008 金化学分析方法 铜、铅和铋量的测定 火焰原子吸收光谱法
- GB/T 11070-2017e 还原锗锭
- GB/T 3630-2006 铌板材、带材和箔材
- YS/T 828-2012 土壤及淡水环境阴极保护用钛阳极
- GB/T 25942-2022 核级银-铟-镉合金棒
- GB/T 23523-2009 再生锗原料中锗的测定方法
- GB/T 3630-2017 铌板材、带材和箔材
- YS/T 903.2-2013 铟废料化学分析方法 第2部分:锡量的测定 碘量法