收藏到云盘
纠错反馈

GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 25188-2010
  • 名称:
    硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
  • 英文名称:
    Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2010-09-26
  • 实施日期:
    2011-08-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    实施公告【】
    • 阅读或下载 使用APP、PC客户端等功能更强大
    • 网页在线阅读 体验阅读、搜索等基本功能
    • 用户分享资源 来自网友们上传分享的文件
    • 纸书购买 平台官方及网友推荐
分类信息
  • ICS分类:
    化工技术(71) 分析化学(71.040) 化学分析(71.040.40)
  • CCS分类:
    化工(G) 化工综合(G00/09) 基础标准与通用方法(G04)
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    本标准由全国微束分析标准化技术委员会提出并归口。
    本标准起草单位:中国科学院化学研究所、中国计量科学研究院。
    本标准起草人:刘芬、王海、赵良仲、宋小平、赵志娟、邱丽美。
  • 适用范围:
    本标准规定了一种准确测量硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的方法,即X射线光电子能谱法(XPS)。本标准适用于热氧化法在硅晶片表面制备的超薄氧化硅层厚度的准确测量;通常,本标准适用的氧化硅层厚度不大于6 nm。
  • 引用标准:
    暂无
相关标准
  • 引用标准:
    GB/T 22461 GB/T 19500 GB/T 21006 GB/T 22571
相关部门
  • 起草单位:
    中国计量科学研究院 中国科学院化学研究所
  • 提出部门:
    全国微束分析标准化技术委员会
  • 归口单位:
    全国微束分析标准化技术委员会
  • 主管部门:
    全国微束分析标准化技术委员会
相关人员
暂无
关联标准
  • SN/T 4113-2015 塑料及制品中苯乙酮的检测方法 高效液相色谱法
  • HG/T 2752-1996 未增塑乙酸纤维素游离酸度的测定
  • HG/T 2898-1997 工业用化学品命名
  • HG/T 3506-1999 表面活性剂 试验用水或水溶液电导率的测定
  • GB/T 14636-2007 工业循环冷却水中钙、镁含量的测定 原子吸收光谱法
  • GB/T 16632-2008 水处理剂阻垢性能的测定 碳酸钙沉积法
  • SN/T 3694.10-2013 进出口工业品中全氟烷基化合物测定 第10部分:胶粘剂 液相色谱-串联质谱法
  • GB/T 33838-2017 微束分析 扫描电子显微术 图像锐度评估方法
  • JC/T 1021.2-2007 非金属矿物和岩石化学分析方法 第2部分: 硅酸盐岩石、矿物及硅质原料化学分析方法
  • NY/T 1403-2007 天然橡胶评价方法
  • GB/T 19501-2013 微束分析 电子背散射衍射分析方法通则
  • GB/T 34710.2-2018 混合气体的分类 第2部分:腐蚀性分类
  • DB13/T 1227-2010 河北省有机化工产品中蒸发残渣测定方法
  • GB/T 7686-2016 化工产品中砷含量测定的通用方法
  • GB/T 14643.2-2009 工业循环冷却水中菌藻的测定方法 第2部分:土壤菌群的测定 平皿计数法
  • GB/T 14643.1-2009 工业循环冷却水中菌藻的测定方法 第1部分:粘液形成菌的测定 平皿计数法
  • GB/T 36052-2018 表面化学分析 扫描探针显微镜数据传送格式
  • GB/T 28124-2011 惰性气体中微量氢、氧、甲烷、一氧化碳的测定 气相色谱法
  • GB/T 5832.1-2016 气体分析 微量水分的测定 第1部分:电解法
  • GB/Z 26083-2010 八辛氧基酞菁铜分子在石墨表面吸附结构的测试方法(扫描隧道显微镜)
用户分享资源

GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子...

Thickness measurements for ultrathin sil...
上传文件
注:本列表内文件主要来源于网友们的分享上传。如您发现有不正确不合适的内容,请及时联系客服
纠错反馈
GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子...
提交反馈
分类列表
确定
上传文件
完全匿名 前台匿名 显示用户名 点击选择文件
{{uploadFile.name}} {{uploadFile.sizeStr}}
目前支持上传小于100MB的PDF、OCF、OCS格式文件
注:您上传文件即代表同意平台可以公开给所有用户下载。平台会根据您的选择及实际情况,为您发放相应的直接或分成奖励。平台也可以根据实际情况需要,对您上传到服务器的文件进行调整隐藏删除等,而无需通知到您。
联系客服

纸书购买链接招商中,联系客服入驻

客服QQ: 2449276725 1455033258

1098903864 1969329120

客服电话:0379-80883238

电子邮箱:ocsyun@126.com