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GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy
基本信息
分类信息
-
ICS分类:
【
化工技术(71)
分析化学(71.040)
化学分析(71.040.40)
】
-
CCS分类:
【
化工(G)
化工综合(G00/09)
基础标准与通用方法(G04)
】
-
行标分类:
暂无
描述信息
相关标准
相关部门
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起草单位:
中国计量科学研究院
中国科学院化学研究所
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提出部门:
全国微束分析标准化技术委员会
-
归口单位:
全国微束分析标准化技术委员会
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主管部门:
全国微束分析标准化技术委员会
相关人员
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