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GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy
基本信息
分类信息
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ICS分类：
【
化工技术（71）
分析化学（71.040）
化学分析（71.040.40）
】
-
CCS分类：
【
化工（G）
化工综合（G00/09）
基础标准与通用方法（G04）
】
-
行标分类：
暂无
描述信息
相关标准
相关部门
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起草单位：
中国计量科学研究院
中国科学院化学研究所
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提出部门：
全国微束分析标准化技术委员会
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归口单位：
全国微束分析标准化技术委员会
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主管部门：
全国微束分析标准化技术委员会
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