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GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method
基本信息
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标准号：
GB/T 26070-2010
-
名称：
化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
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英文名称：
Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method
-
状态：
现行
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类型：
国家标准
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性质：
推荐性
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发布日期：
2011-01-10
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实施日期：
2011-10-01
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废止日期：
暂无
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相关公告：
实施公告【关于批准发布《紧固件 质量保证体系》等410项国家标准的公告】
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