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GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method
基本信息
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标准号:
GB/T 26070-2010
-
名称:
化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
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英文名称:
Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method
-
状态:
现行
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类型:
国家标准
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性质:
推荐性
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发布日期:
2011-01-10
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实施日期:
2011-10-01
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废止日期:
暂无
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相关公告:
实施公告【关于批准发布《紧固件 质量保证体系》等410项国家标准的公告】
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