GB/T 11164-2011

真空镀膜设备通用技术条件

Vacuum coating plant generic specification

现行

国家标准

推荐性

2011-11-21

2012-03-01

暂无

实施公告【关于批准发布《压力容器 第1部分:通用要求》等79项国家标准的公告】

暂无

本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准代替GB/T11164—1999《真空镀膜设备通用技术条件》,与GB/T11164—1999相比主要变化如下:
———为使用方便增加了目次;
———修改了GB/T11164—1999中真空镀膜设备的压力范围,由10-4 Pa~10-3 Pa修改为10-5 Pa~10-3Pa;
———修改了GB/T11164—1999表1中镀膜室尺寸分档,增加了300、400、450、1100、1350、2200、2400、2500、2600、3200十档尺寸,并对带“*”号尺寸优先选用进行了调整;
———修改了GB/T11164—1999表1中镀膜设备的分档,增加了C档镀膜设备,并增加或修改了各档镀膜设备的极限压力、抽气时间及升压率指标;
———因GB/T11164—1999中部分规范性引用文件已修订,故本标准引用现行标准;
———修改了GB/T11164—1999的4.4.6,用表格的方式规定了设备配套的电器装置中各电气回路的绝缘电阻值;
———修改了GB/T11164—1999的4.5.4及4.5.12,增加了安全防护内容。
本标准由中国机械工业联合会提出。
本标准由全国真空技术标准化技术委员会(SAC/TC18)归口。
本标准负责起草单位:北京北仪创新真空技术有限责任公司。
本标准参加起草单位:上海曙光机械制造厂有限公司、兰州真空设备有限责任公司、成都南光机器有限公司、中国航天科技集团第五研究院第510研究所、上海惠丰石油化工有限公司、沈阳真空技术研究所。
本标准主要起草人:陈月增、谢钧荣、范立群、孙凯、温发兰、靳毅、刘强、惠进德、王学智。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
———GB/T11164—1989、GB/T11164—1999。

本标准规定了真空镀膜设备的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等要求。
本标准适用于压力在10-5Pa ～10-3Pa范围的真空蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备（以下简称设备）。

下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅所注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T191—2008 包装储运图示标志
GB/T3163—2007 真空技术 术语
GB5226.1—2008 机械电气安全 机械电气设备 第1部分:通用技术条件
GB/T6070—2007 真空技术 法兰尺寸
GB/T13306—2011 标牌
GB/T13384—2008 机电产品包装通用技术条件
GB/T15945—2008 电能质量 电力系统频率偏差
GB18209.1—2010 机械电气安全 指示、标志和操作 第1部分:关于视觉、听觉和触觉信号的要求
JB/T7673 真空设备型号编制方法

GB/T 11164-1999

GB/T 191-2008 GB/T 3163-2007 GB 5226.1-2008 GB/T 6070-2007 GB/T 13306-2011 GB/T 13384-2008 GB/T 15945-2008 GB 18209.1-2010 JB/T 7673

中国机械工业联合会

全国真空技术标准化技术委员会(SAC/TC 18)

全国真空技术标准化技术委员会(SAC/TC 18)

北京北仪创新真空技术有限责任公司