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GB/T 28275-2012 硅基MEMS制造技术 氢氧化钾腐蚀工艺规范

Silicon-based MEMS fabrication technology - Specification for KOH etch process
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 28275-2012
  • 名称:
    硅基MEMS制造技术 氢氧化钾腐蚀工艺规范
  • 英文名称:
    Silicon-based MEMS fabrication technology - Specification for KOH etch process
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2012-05-11
  • 实施日期:
    2012-12-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    实施公告【关于批准发布《金属材料线材第1部分:单向扭转试验方法》等123项国家标准的公告】
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分类信息
  • ICS分类:
    【 电子学(31) 集成电路、微电子学(31.200) 】
  • CCS分类:
    【 电子元器件与信息技术(L) 微电路(L55/59) 微电路综合(L55) 】
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
    本标准由全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC336)提出并归口。
    本标准起草单位:中国科学院上海微系统与信息技术研究所、重庆大学、东南大学、中国电子科技集团第四十九研究所、中机生产力促进中心。
    本标准主要起草人:夏伟锋、熊斌、冯飞、戈肖鸿、周再发、李玉玲、贺学锋、田雷、刘伟。
  • 适用范围:
    本标准规定了采用氢氧化钾腐蚀工艺进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求。
    本标准适用于氢氧化钾腐蚀工艺和管理。
  • 引用标准:
    下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
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相关标准
  • 引用标准:
    GB/T 26111-2010 GB/T 1031-2009 GB 50073-2001
相关部门
  • 起草单位:
    重庆大学 中机生产力促进中心 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 东南大学 中国电子科技集团第四十九研究所
  • 归口单位:
    全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
  • 主管部门:
    全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
相关人员
暂无
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