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GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则

Silicon-based MEMS fabrication technology - The basic regulation of layout design
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 28274-2012
  • 名称：
    硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
  • 英文名称：
    Silicon-based MEMS fabrication technology - The basic regulation of layout design
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2012-05-11
  • 实施日期：
    2012-12-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《金属材料线材第1部分：单向扭转试验方法》等123项国家标准的公告】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
    本标准由全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC336)提出并归口。
    本标准起草单位:北京大学、中机生产力促进中心、中国电子科技集团第十三研究所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、西北工业大学。
    本标准主要起草人:张大成、王玮、刘伟、杨芳、姜森林、崔波、熊斌、乔大勇。
  • 适用范围：
    本标准规定了微结构加工时，光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。
    本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积（PVD）、离子注入、反应离子刻蚀（RIE）、氢氧化钾（KOH）腐蚀、硅玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
  • 引用标准：
    下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
    GB/T26111—2010 微机电系统(MEMS)技术 术语
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 26111-2010
相关部门
  • 起草单位：
    北京大学 西北工业大学 中机生产力促进中心 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 中国电子科技集团第十三研究所
  • 归口单位：
    全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
  • 主管部门：
    全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
相关人员
暂无
关联标准