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GB/T 15862-2012 离子注入机通用规范
General specification of ion implantation equipment基本信息
- 标准号:GB/T 15862-2012
- 名称:离子注入机通用规范
- 英文名称:General specification of ion implantation equipment
- 状态:现行
- 类型:国家标准
- 性质:推荐性
- 发布日期:2012-11-05
- 实施日期:2013-02-15
- 废止日期:暂无
- 相关公告:
分类信息
- ICS分类:暂无
- CCS分类:【 】
- 行标分类:暂无
描述信息
- 前言:本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准代替GB/T15862—1995《离子注入机通用技术条件》。
本标准与GB/T15862—1995相比主要变化如下:
———GBn193—1983由GB/T13384—1992代替;
———增加术语“注入角度”(见3.6)、“最大晶片传输效率”(见3.7),并在性能指标及测试方法中做相应要求(见6.4.6);
———环境温度调整为23℃±2℃;相对湿度规定范围30%~50%(见5.1.3);
———安全要求中增加“警示标识”的条款(见6.3.1);
———去掉表3、表4;
———均匀性测量增加了热波探针法测量条件和方法(见6.4.4.1b));
———重复性测量增加了批间重复性测量方法(见6.4.5.2);
———检验规则去掉例行检验项。
本标准由中华人民共和国工业和信息化部提出。
本标准由中国电子技术标准化研究所归口。
本标准起草单位:中国电子科技集团公司第四十八研究所。
本标准主要起草人:郭健辉、彭立波、罗宏洋。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
———GB/T15862—1995。 - 适用范围:本标准规定了离子注入机的术语、产品分类、技术要求、试验、检验规则和标志、包装、运输、贮存。
本标准适用于半导体工艺用电能离子注入机。其他离子注入机亦可参照使用。 - 引用标准:下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
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SJ/T1276 金属镀层和化学处理层质量检验技术要求
SJ/T10674 涂料涂覆通用技术条件
相关标准
- 代替标准:GB/T 15862-1995
- 引用标准:GB/T 191 GB/T 4857.7-2005 GB/T 5080.7-1986 GB/T 6388-1986 GB/T 13384-1992 GB 18209.1 SJ/T 142 SJ/T 1276 SJ/T 10674
相关部门
- 归口单位:中国电子技术标准化研究所
- 主管部门:中国电子技术标准化研究所
- 起草单位:中国电子科技集团公司第四十八研究所
相关人员
暂无
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