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GB/T 15862-2012 离子注入机通用规范
General specification of ion implantation equipment
基本信息
分类信息
-
ICS分类：
暂无
-
CCS分类：
【
电子元器件与信息技术（L）
电子工业生产设备（L95/99）
加工专用设备（L97）
】
-
行标分类：
暂无
描述信息
-
前言：
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准代替GB/T15862—1995《离子注入机通用技术条件》。
本标准与GB/T15862—1995相比主要变化如下:
———GBn193—1983由GB/T13384—1992代替;
———增加术语“注入角度”(见3.6)、“最大晶片传输效率”(见3.7),并在性能指标及测试方法中做相应要求(见6.4.6);
———环境温度调整为23℃±2℃;相对湿度规定范围30%~50%(见5.1.3);
———安全要求中增加“警示标识”的条款(见6.3.1);
———去掉表3、表4;
———均匀性测量增加了热波探针法测量条件和方法(见6.4.4.1b));
———重复性测量增加了批间重复性测量方法(见6.4.5.2);
———检验规则去掉例行检验项。
本标准由中华人民共和国工业和信息化部提出。
本标准由中国电子技术标准化研究所归口。
本标准起草单位:中国电子科技集团公司第四十八研究所。
本标准主要起草人:郭健辉、彭立波、罗宏洋。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
———GB/T15862—1995。
-
适用范围：
本标准规定了离子注入机的术语、产品分类、技术要求、试验、检验规则和标志、包装、运输、贮存。
本标准适用于半导体工艺用电能离子注入机。其他离子注入机亦可参照使用。
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引用标准：
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
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相关标准
相关部门
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归口单位：
中国电子技术标准化研究所
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主管部门：
中国电子技术标准化研究所
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起草单位：
中国电子科技集团公司第四十八研究所
相关人员
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