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YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
High-purity sputtering copper target used in electronic film
基本信息
分类信息
-
ICS分类:
【
冶金(77)
有色金属产品(77.150)
铜产品(77.150.30)
】
-
CCS分类:
【
冶金(H)
有色金属及其合金产品(H60/69)
重金属及其合金(H62)
】
-
行标分类:
描述信息
-
前言:
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
本标准起草单位:宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司。
本标准主要起草人:王学泽、宋佳、高岩、尚再燕、赵永善、袁洁、熊晓东。
-
适用范围:
本标准规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同(或订货单)内容。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯铜溅射靶材(以下简称高纯铜靶)。
-
引用标准:
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
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