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JC/T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
基本信息
  • 标准号:
    JC/T 2133-2012
  • 名称:
    半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
  • 英文名称:
    Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    行业标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2012-12-28
  • 实施日期:
    2013-06-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    实施公告【2013年第2号(总第158号)】
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分类信息
  • ICS分类:
    化工技术(71) 分析化学(71.040)
  • CCS分类:
    医药、卫生、劳动保护(C) 医药(C10/29) 解热镇痛、麻醉与中枢神经系统用药(C14) 】、
    化工(G) 无机化工原料(G10/14) 其他无机化工原料(G14)
  • 行标分类:
    建材(JC)
描述信息
  • 前言:
    暂无
  • 适用范围:
    本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。
    本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。
  • 引用标准:
    暂无
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暂无
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  • 起草单位:
    中国科学院上海硅酸盐研究所
相关人员
暂无
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