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JC/T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
基本信息
  • 标准号：
    JC/T 2133-2012
  • 名称：
    半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
  • 英文名称：
    Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    行业标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2012-12-28
  • 实施日期：
    2013-06-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【2013年第2号(总第158号)】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱（ICP-AES）法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。
    本标准适用于半导体化学机械抛光（CMP）中抛光液用的各种硅溶胶。
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
暂无
相关部门
  • 起草单位：
    中国科学院上海硅酸盐研究所
相关人员
暂无
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