收藏到云盘
纠错反馈
GB/T 29057-2012 用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程
Practice for evaluation of polocrystalline silicon rods by float-zone crystal growth and spectroscopy基本信息
- 标准号:GB/T 29057-2012
- 名称:用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程
- 英文名称:Practice for evaluation of polocrystalline silicon rods by float-zone crystal growth and spectroscopy
- 状态:现行
- 类型:国家标准
- 性质:推荐性
- 发布日期:2012-12-31
- 实施日期:2013-10-01
- 废止日期:暂无
- 相关公告:
分类信息
- ICS分类:【 】
- CCS分类:【 】
- 行标分类:暂无
描述信息
- 前言:本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准修改采用国际标准SEMIMF1723-1104《用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程》。为方便比较,资料性附录A 中列出了本标准章条和对应的国际标准章条的对照一览表。
本标准在采用SEMIMF1723-1104时进行了修改。这些技术差异用垂直单线标识在它们所涉及的条款的页边空白处。主要技术差异如下:
———在“规范性引用文件”中,凡我国已有国家标准的,均用相应的国家标准代替SEMIMF1723-1104中的“引用文件”。
———增加规范性引用文件GB/T1553《硅和锗体内少数载流子寿命测定 光电导衰减法》。
———将6.2中“…ISO14644-1中规定的ISO5级…”改为“…GB50073中规定的5级…”。
———将7.2.1中“…ISO14644-1中规定的ISO6级…”改为“…GB50073中规定的6级…”。
———将7.3.1中“…ISO14644-1中规定的ISO6级…”改为“…GB50073中规定的6级…”。
———将7.3.1中“…1×10-6torr…”改为“…1.3×10-4Pa…”。
———将8.1中“硝酸(HNO3)———符合SEMIC352级”改为“硝酸(HNO3)———符合GB/T626优级纯”。
———将8.2中“氢氟酸(HF)———符合SEMIC282级”改为“氢氟酸(HF)———符合GB/T620优级纯”。
———将8.4中“去离子水———纯度等于或优于ASTM D5127中的E-2级”改为“去离子水———纯度等于或优于GB/T11446.1中的EW-2级”。
———将8.5中“高纯氩气———符合SEMIC3.42”改为“高纯氩气———符合GB/T4842优等品”。
———增加12.5.2.4“按照GB/T1553检测晶棒体内少数载流子寿命。”
———将12.6.1中“…根据SEMIMF1391分析碳含量…”改为“…根据GB/T1558分析碳含量…”。
———将12.6.3.3中“…按测试方法SEMIMF1391…”改为“…按测试方法GB/T1558…”。
———将13.3.5.1中“…见SEMIMF723…”改为“…见GB/T13389…”。
———将14.1中“…在SEMIMF1391中…”改为“…在GB/T1558中…”。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
本标准起草单位:四川新光硅业科技有限责任公司、乐山乐电天威硅业科技有限责任公司、天威四川硅业有限责任公司。
本标准主要起草人:梁洪、刘畅、陈自强、张新、蓝志、张华端、瞿芬芬。 - 适用范围:暂无
- 引用标准:暂无
相关标准
- 引用标准:GB/T 620 GB/T 626 GB/T 1550 GB/T 1551 GB/T 1553 GB/T 1554 GB/T 1555 GB/T 1558 GB/T 4842 GB/T 11446.1 GB/T 13389 GB/T 14264 GB/T 24574 GB/T 24581 GB 50073
- 采用标准:SEMI MF1723-1104 用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程 (修改采用 MOD)
相关部门
- 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
- 主管部门:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
- 起草单位:乐山乐电天威硅业科技有限责任公司 四川新光硅业科技有限责任公司 天威四川硅业有限责任公司
相关人员
暂无
关联标准
- GB/T 20230-2022 磷化铟单晶
- GB/T 26069-2010 硅退火片规范
- GB/T 31854-2015 光伏电池用硅材料中金属杂质含量的电感耦合等离子体质谱测量方法
- YS/T 1160-2016 工业硅粉定量相分析 二氧化硅含量的测定 X射线衍射K值法
- GB/T 32651-2016 采用高质量分辨率辉光放电质谱法测量太阳能级硅中痕量元素的测试方法
- SJ/T 11492-2015 光致发光法测定磷镓砷晶片的组分
- GB/T 4058-2009 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
- T/IAWBS 001-2017 碳化硅单晶
- GB/T 8756-2018 锗晶体缺陷图谱
- SJ/T 11488-2015 半绝缘砷化镓电阻率、霍尔系数和迁移率测试方法
- GB/T 29507-2013 硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法
- GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
- GB/T 17170-1997 非掺杂半绝缘砷化镓单晶深能级EL2浓度红外吸收测试方法
- GB/T 5238-2019 锗单晶和锗单晶片
- GB/T 11071-2006 区熔锗锭
- GB/T 24577-2009 热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物
- YS/T 99-1997 三氧化二砷
- GB/T 13387-2009 硅及其它电子材料晶片参考面长度测量方法
- GB/T 36706-2018 磷化铟多晶
- GB/T 25074-2010 太阳能级多晶硅