收藏到云盘
纠错反馈
GB/T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法
Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron,aluminium,phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,copper,molybdenum,arsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method
基本信息
标准号:
GB/T 29056-2012
名称:
硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法
英文名称:
Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron,aluminium,phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,copper,molybdenum,arsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method
状态:
现行
类型:
国家标准
性质:
推荐性
发布日期:
2012-12-31
实施日期:
2013-10-01
废止日期:
暂无
相关公告:
实施公告【关于批准发布《锚链涂漆和标志》等722项国家标准和47项国家标准样品的公告】
阅读或下载
使用APP、PC客户端等功能更强大
网页在线阅读
体验阅读、搜索等基本功能
用户分享资源
来自网友们上传分享的文件
纸书购买
平台官方及网友推荐
分类信息
ICS分类:
【
电子学(31)
电子技术专用材料(31.030)
】
CCS分类:
【
电子元器件与信息技术(L)
电子设备与专用材料、零件、结构件(L90/94)
电子技术专用材料(L90)
】
行标分类:
暂无
描述信息
前言:
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。 本标准起草单位:南京中锗科技股份有限公司、南京大学现代分析中心、南京大学国家863计划新材料MO 源研究开发中心。 本标准主要起草人:郑华荣、刘新军、龚磊荣、张莉萍、黄和明、陈逸君、虞磊。
适用范围:
本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等痕量元素含量的方法。 本标准适用于硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等含量的测定。各元素测定范围见表1。
引用标准:
暂无
相关标准
相关部门
归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC
203)
主管部门:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC
203)
起草单位:
南京中锗科技股份有限公司
南京大学现代分析中心
南京大学国家863计划新材料MO源研究开发中心
相关人员
关联标准
GB/T 6628-1996
人造石英晶体制材
SJ/T 11140-2012
铝电解电容器用电极箔
GB 11309-1989
压电陶瓷材料性能测试方法 纵向压电应变常数d33的准静态测试
GB/T 4182-1997
钼丝
GB 11113-1989
人造石英晶体中杂质的分析方法
GB/T 3389.2-1999
压电陶瓷材料性能测试方法 纵向压电应变常数d33的静态测试
SJ/T 11732-2018
超级电容器用有机电解液规范
SJ/T 11508-2015
集成电路用 正胶显影液
JB/T 9493.6-1999
锰铜和新康铜电阻合金化学分析方法 高氯酸脱水重量法测定硅量
SJ/T 3328.4-2016
电子产品用高纯石英砂 第4部分 二氧化硅的测定
T/CEMIA 021-2019
厚膜集成电路用电阻浆料规范
SJ/T 3328.8-2016
电子产品用高纯石英砂 第8部分 铝的测定
SJ/T 11390-2009
无铅焊料试验方法
GB/T 32650-2016
电感耦合等离子质谱法检测石英砂中痕量元素
SJ/Z 328-1972
镀铜铁镍合金丝中铜镍分析方法
GB/T 5838.45-2015
荧光粉 第4-5部分:彩色显示管用荧光粉
SJ/T 11506-2015
集成电路用 铝腐蚀液
SJ/T 11198-1999
黑白显象管、单色显示管和电光源用玻管
GB 11496.1-1989
彩色显示管用Y30-G1荧光粉
GB 11114-1989
人造石英晶体位错的X射线形貌检测方法