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GB/T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法
Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron,aluminium,phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,copper,molybdenum,arsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method
基本信息
标准号:
GB/T 29056-2012
名称:
硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法
英文名称:
Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron,aluminium,phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,copper,molybdenum,arsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method
状态:
现行
类型:
国家标准
性质:
推荐性
发布日期:
2012-12-31
实施日期:
2013-10-01
废止日期:
暂无
相关公告:
实施公告【关于批准发布《锚链涂漆和标志》等722项国家标准和47项国家标准样品的公告】
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分类信息
ICS分类:
【
电子学(31)
电子技术专用材料(31.030)
】
CCS分类:
【
电子元器件与信息技术(L)
电子设备与专用材料、零件、结构件(L90/94)
电子技术专用材料(L90)
】
行标分类:
暂无
描述信息
前言:
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。 本标准起草单位:南京中锗科技股份有限公司、南京大学现代分析中心、南京大学国家863计划新材料MO 源研究开发中心。 本标准主要起草人:郑华荣、刘新军、龚磊荣、张莉萍、黄和明、陈逸君、虞磊。
适用范围:
本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等痕量元素含量的方法。 本标准适用于硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等含量的测定。各元素测定范围见表1。
引用标准:
暂无
相关标准
相关部门
归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC
203)
主管部门:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC
203)
起草单位:
南京中锗科技股份有限公司
南京大学现代分析中心
南京大学国家863计划新材料MO源研究开发中心
相关人员
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