收藏到云盘
纠错反馈

GB/T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法

Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron,aluminium,phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,copper,molybdenum,arsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 29056-2012
  • 名称:
    硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法
  • 英文名称:
    Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron,aluminium,phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,copper,molybdenum,arsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2012-12-31
  • 实施日期:
    2013-10-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    实施公告【关于批准发布《锚链涂漆和标志》等722项国家标准和47项国家标准样品的公告】
    • 阅读或下载 使用APP、PC客户端等功能更强大
    • 网页在线阅读 体验阅读、搜索等基本功能
    • 用户分享资源 来自网友们上传分享的文件
    • 纸书购买 平台官方及网友推荐
分类信息
  • ICS分类:
    电子学(31) 电子技术专用材料(31.030)
  • CCS分类:
    电子元器件与信息技术(L) 电子设备与专用材料、零件、结构件(L90/94) 电子技术专用材料(L90)
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
    本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
    本标准起草单位:南京中锗科技股份有限公司、南京大学现代分析中心、南京大学国家863计划新材料MO 源研究开发中心。
    本标准主要起草人:郑华荣、刘新军、龚磊荣、张莉萍、黄和明、陈逸君、虞磊。
  • 适用范围:
    本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等痕量元素含量的方法。
    本标准适用于硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等含量的测定。各元素测定范围见表1。
  • 引用标准:
    暂无
相关标准
暂无
相关部门
  • 归口单位:
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
  • 主管部门:
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
  • 起草单位:
    南京中锗科技股份有限公司 南京大学现代分析中心 南京大学国家863计划新材料MO源研究开发中心
相关人员
暂无
关联标准
  • GB 11446.2-1989 电子级水术语
  • SJ/T 11556-2015 用原子吸收光谱测定硝酸溶剂中银、金、钙、铜、铁、钾和钠的含量
  • SJ/T 3328.4-2016 电子产品用高纯石英砂 第4部分 二氧化硅的测定
  • GB/T 18791-2002 电子和电气陶瓷性能试验方法
  • SJ/T 11514-2015 印制电路用热固型导体浆料
  • GB/T 32647-2016 平板显示器基板玻璃规范
  • GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
  • SJ 678-1983 DB-403电真空玻璃主要技术数据
  • GB/T 25496-2010 吸气剂机械性能测试方法
  • GB/T 11446.1-2013 电子级水
  • JB/T 10079-1999 金属带材弹性性能试验方法
  • GB 11446.1-1989 电子级水
  • SJ 20963-2006 钨铼合金中铼含量的测定方法
  • SJ 683-1983 DB-494电真空玻璃主要技术数据
  • GB/T 3388-2002 压电陶瓷材料型号命名方法
  • JB/T 9499.7-1999 康铜电阻合金化学分析方法 硅钼兰光度法测定硅量
  • SJ/T 3326-2001 陶瓷--金属封接抗拉强度测试方法
  • GB/T 9491-2002 锡焊用液态焊剂(松香基)
  • SJ 2414-1983 DB-495电真空玻璃主要技术数据
  • SJ/T 3201-2016 铝钎焊接头规范
用户分享资源

GB/T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬...

Trichlorosilane for silicon epitaxy - De...
上传文件
注:本列表内文件主要来源于网友们的分享上传。如您发现有不正确不合适的内容,请及时联系客服
纠错反馈
GB/T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬...
提交反馈
分类列表
确定
上传文件
完全匿名 前台匿名 显示用户名 点击选择文件
{{uploadFile.name}} {{uploadFile.sizeStr}}
目前支持上传小于100MB的PDF、OCF、OCS格式文件
注:您上传文件即代表同意平台可以公开给所有用户下载。平台会根据您的选择及实际情况,为您发放相应的直接或分成奖励。平台也可以根据实际情况需要,对您上传到服务器的文件进行调整隐藏删除等,而无需通知到您。
联系客服

纸书购买链接招商中,联系客服入驻

客服QQ: 2449276725 1455033258

1098903864 1969329120

客服电话:0379-80883238

电子邮箱:ocsyun@126.com