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YS/T 936-2013 集成电路器件用镍钒合金靶材
Sputtering nickel vanadium alloy target used in integrated circuit device
基本信息
分类信息
-
ICS分类：
【
冶金（77）
有色金属产品（77.150）
镍和铬产品（77.150.40）
】
-
CCS分类：
【
冶金（H）
有色金属及其合金产品（H60/69）
重金属及其合金（H62）
】
-
行标分类：
描述信息
-
前言：
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员(SAC/TC243)归口。
本标准负责起草单位:有研亿金新材料股份有限公司。
本标准参加起草单位:北京有色金属研究总院、宁波江丰电子材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所。
本标准主要起草人:董亭义、何金江、刘红宾、张涛、姚力军、王学泽、向磊、徐学礼、朱晓光、丁照崇、吕超、雷继峰、熊晓东、张殿凯、李娜。
-
适用范围：
本标准规定了集成电路器件用镍钒合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同或订货单内容。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类镍钒合金溅射靶材。
-
引用标准：
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
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GB/T14265 金属材料中氢、氧、氮、碳和硫分析方法通则
GJB1580A 变形金属超声检验方法
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