YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
分类信息
ICS分类：
【
冶金（77）
有色金属产品（77.150）
其他有色金属产品（77.150.99）
】
CCS分类：
【
冶金（H）
有色金属及其合金产品（H60/69）
贵金属及其合金（H68）
】
行标分类：
前言：
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
适用范围：
本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。
引用标准：
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