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YS/T 900-2013 高纯钨化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法

Methods for chemical analysis of the high purity tungsten—Determination of trace impurity element content—Inductively coupled plasma mass spectrometry
基本信息
  • 标准号：
    YS/T 900-2013
  • 名称：
    高纯钨化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
  • 英文名称：
    Methods for chemical analysis of the high purity tungsten—Determination of trace impurity element content—Inductively coupled plasma mass spectrometry
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    行业标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2013-10-17
  • 实施日期：
    2014-03-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【2014年第1号(总第169号)】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
    本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
    本标准起草单位:北京有色金属研究总院、金川新材料科技股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司。
    本标准主要起草人:张殿凯、李艳芬、刘英、孙泽明、童坚、臧慕文、张江峰、邱平、文英。
  • 适用范围：
    本标准规定了高纯钨中锂、铍、硼、铬、钛、钒、锰、铁、钴、镍、铜、镓、砷、锶、锆、钽、铌、钼、镉、锑、铪、铅和铋量的测定方法。
    本标准适用于高纯钨中痕量杂质的测定，测定范围：0.000 1%～0.010%。
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
暂无
相关部门
  • 起草单位：
    北京有色金属研究总院 东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司 金川新材料科技股份有限公司
相关人员
暂无
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