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GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 29844-2013
  • 名称：
    用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
  • 英文名称：
    Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2013-11-12
  • 实施日期：
    2014-04-15
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《坑木》等194项国家标准的公告】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
    请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。
    本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
    本标准起草单位:上海华虹NEC电子有限公司。
    本标准主要起草人:王雷、伍强、朱骏、陈宝钦。
  • 适用范围：
    本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸，以及推荐的布局和设计规则，这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。
    本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量，适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。
  • 引用标准：
    下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
    GB/T16878—1997 用于集成电路制造技术的检测图形单元规范
    SJ/T10584—1994 微电子学光掩蔽技术术语
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 16878-1997 SJ/T 10584-1994
相关部门
  • 归口单位：
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
  • 主管部门：
    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
  • 起草单位：
    上海华虹NEC电子有限公司
相关人员
暂无
关联标准