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GB/T 14620-2013 薄膜集成电路用氧化铝陶瓷基片
Alumina ceramic substrates for thin film integrated circuits
基本信息
分类信息
-
ICS分类：
【
电子学（31）
电子技术专用材料（31.030）
】
-
CCS分类：
【
电子元器件与信息技术（L）
电子设备与专用材料、零件、结构件（L90/94）
电子技术专用材料（L90）
】
-
行标分类：
暂无
描述信息
-
前言：
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准代替GB/T14620—1993《薄膜集成电路用氧化铝陶瓷基片》,与GB/T14620—1993相比,主要变化如下:
———增加了术语和产品标识(见第3章和第4章);
———增加了对标称氧化铝含量不能小于实际含量的要求(见4.3);
———细化了划线前后可能对基片外形尺寸造成影响的指标(见5.2.2);
———增加了对基片直线度的要求(见表2);
———区分烧结和抛光基片(见表1和表5);
———对基片翘曲度的测试进行了详细说明(见附录A)。
本标准由中华人民共和国工业和信息化部提出。
本标准由中国电子技术标准化研究院归口。
本标准起草单位:中国电子技术标准化研究院。
本标准主要起草人:曹易、李晓英。
本标准所代替标准的历次版本发布情况:
———GB/T14620—1993。
-
适用范围：
本标准规定了薄膜集成电路用氧化铝陶瓷基片的要求、测试方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。
本标准适用于薄膜集成电路用氧化铝陶瓷基片（以下简称“基片”）的生产和采购,采用薄膜工艺的片式元件用氧化铝陶瓷基片也可参照使用。
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引用标准：
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
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相关标准
相关部门
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归口单位：
中国电子技术标准化研究院
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主管部门：
中国电子技术标准化研究院
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起草单位：
中国电子技术标准化研究院
相关人员
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