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GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
基本信息
  • 标准号:
    GB/T 29658-2013
  • 名称:
    电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
  • 英文名称:
    High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
  • 状态:
    现行
  • 类型:
    国家标准
  • 性质:
    推荐性
  • 发布日期:
    2013-09-06
  • 实施日期:
    2014-05-01
  • 废止日期:
    暂无
  • 相关公告:
    实施公告【关于批准发布《金属材料薄板和薄带反复弯曲试验方法》等83项国家标准的公告】
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分类信息
  • ICS分类:
    【 冶金(77) 有色金属(77.120) 铝和铝合金(77.120.10) 】
  • CCS分类:
    【 冶金(H) 有色金属及其合金产品(H60/69) 轻金属及其合金(H61) 】
  • 行标分类:
    暂无
描述信息
  • 前言:
    本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
    本标准由全国有色金属标准化技术委员(SAC/TC243)归口。
    本标准负责起草单位:有研亿金新材料股份有限公司。
    本标准参加起草单位:宁波江丰电子材料有限公司、新疆众和股份有限公司。
    本标准主要起草人:万小勇、罗俊锋、廖赞、尚再艳、杨华、朱晓光、孙秀霖、何金江、熊晓东、王兴权、王学泽、钱红兵、喻洁、刘杰、洪涛、努力古、宋玉萍。
  • 适用范围:
    本标准规定了电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、存贮、订货单(或合同)等内容。
    本标准适用于电子薄膜用各类高纯铝及铝合金溅射靶材(以下简称铝靶)。
  • 引用标准:
    下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本标准。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本标准。
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相关标准
  • 引用标准:
    GB/T 1804 GB/T 6394 GB/T 14265 GB/T 15823 GB/T 20975.25 GJB 1580A JB/T 4734 YS/T 837 YS/T 871
相关部门
  • 归口单位:
    243) 全国有色金属标准化技术委员(SAC/TC
  • 主管部门:
    243) 全国有色金属标准化技术委员(SAC/TC
  • 起草单位:
    有研亿金新材料股份有限公司
相关人员
暂无
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