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GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

Surface chemical analysis―Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 30701-2014
  • 名称：
    表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
  • 英文名称：
    Surface chemical analysis―Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2014-03-27
  • 实施日期：
    2014-12-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《水泥密度测定方法》等127项国家标准的公告】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
    本标准使用翻译法等同采用ISO17331:2004《表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定》。
    本标准纳入了ISO17331:2004/Amd.1:2010的修正内容,这些修正内容涉及的条款已通过在其外侧页边空白位置的垂直双线(‖)进行了标示。
    本标准由全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38)提出并归口。
    本标准起草单位:中国计量科学研究院。
    本标准主要起草人:王海、宋小平、王梅玲、高思田、冯流星。
  • 适用范围：
    本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法（气相分解法或直接酸性液滴分解法）和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定。
  • 引用标准：
    下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
    GB/T6379.2—2004 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第2部分:确定标准测量方法重复性和复现性的基本方法(ISO5725-2:1994,IDT)
    ISO14644-1:1999 洁净室和相关控制环境 第1部分:空气洁净度的分级
    ISO14706:2000 表面化学分析 硅片表面元素污染的全反射X 射线荧光光谱法(TXRF)测定
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 6379.2-2004 ISO 14644-1:1999 ISO 14706:2000
  • 采用标准：
    ISO 17331:2004 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定 （等同采用 IDT）
相关部门
  • 起草单位：
    中国计量科学研究院
  • 归口单位：
    全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
  • 主管部门：
    全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
相关人员
暂无
关联标准