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GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
Surface chemical analysis―Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
基本信息
标准号:
GB/T 30701-2014
名称:
表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
英文名称:
Surface chemical analysis―Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
状态:
现行
类型:
国家标准
性质:
推荐性
发布日期:
2014-03-27
实施日期:
2014-12-01
废止日期:
暂无
相关公告:
实施公告【关于批准发布《水泥密度测定方法》等127项国家标准的公告】
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分类信息
ICS分类:
【
化工技术(71)
分析化学(71.040)
化学分析(71.040.40)
】
CCS分类:
【
化工(G)
化工综合(G00/09)
基础标准与通用方法(G04)
】
行标分类:
暂无
描述信息
前言:
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。 本标准使用翻译法等同采用ISO17331:2004《表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定》。 本标准纳入了ISO17331:2004/Amd.1:2010的修正内容,这些修正内容涉及的条款已通过在其外侧页边空白位置的垂直双线(‖)进行了标示。 本标准由全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38)提出并归口。 本标准起草单位:中国计量科学研究院。 本标准主要起草人:王海、宋小平、王梅玲、高思田、冯流星。
适用范围:
本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法(气相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。
引用标准:
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。 GB/T6379.2—2004 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第2部分:确定标准测量方法重复性和复现性的基本方法(ISO5725-2:1994,IDT) ISO14644-1:1999 洁净室和相关控制环境 第1部分:空气洁净度的分级 ISO14706:2000 表面化学分析 硅片表面元素污染的全反射X 射线荧光光谱法(TXRF)测定
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