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GB/T 31227-2014 原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法
Test method for the surface roughness by atomic force microscope for sputtered thin films基本信息
- 标准号:GB/T 31227-2014
- 名称:原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法
- 英文名称:Test method for the surface roughness by atomic force microscope for sputtered thin films
- 状态:现行
- 类型:国家标准
- 性质:推荐性
- 发布日期:2014-09-30
- 实施日期:2015-04-15
- 废止日期:暂无
- 相关公告:
分类信息
- ICS分类:【 】
- CCS分类:【 】
- 行标分类:暂无
描述信息
- 前言:本标准按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由中国科学院提出。
本标准由全国纳米技术标准化技术委员会(SAC/TC279)归口。
本标准起草单位:上海交通大学、纳米技术及应用国家工程研究中心。
本标准起草人:李慧琴、梁齐、路庆华、何丹农、张冰。 - 适用范围:本标准规定了使用原子力显微镜(AFM)测量表面粗糙度的方法。
本标准适用于测量溅射成膜方法生成的、平均粗糙度Ra小于100 nm的薄膜。
其他非溅射薄膜的表面粗糙度的测量可以参考此方法。 - 引用标准:下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T27760—2011 利用Si(111)晶面原子台阶对原子力显微镜亚纳米高度测量进行校准的方法。
相关标准
- 引用标准:GB/T 27760-2011
相关部门
- 提出部门:中国科学院
- 起草单位:上海交通大学 纳米技术及应用国家工程研究中心
- 归口单位:全国纳米技术标准化技术委员会(SAC/TC 279)
相关人员
暂无
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