GB/T 14849.5-2014

工业硅化学分析方法 第5部分：杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法

Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 5：Determination of impurity contents―X-ray fluorescence method

现行

国家标准

推荐性

2014-12-05

2015-05-01

暂无

实施公告【关于批准发布《热交换器》等234项国家标准的公告】

暂无

GB/T14849《工业硅化学分析方法》分为9个部分:
———第1部分:铁含量的测定 1,10-二氮杂菲分光光度法;
———第2部分:铝含量的测定 铬天青-S分光光度法;
———第3部分:钙含量的测定 火焰原子吸收光谱法、偶氮氯膦Ⅰ分光光度法;
———第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱;
———第5部分:杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法;
———第6部分:碳含量的测定 红外吸收法;
———第7部分:磷含量的测定 钼蓝分光光度法;
———第8部分:铜含量的测定 PADAP分光光度法;
———第9部分:钛含量的测定 二安替比林甲烷分光光度法。
本部分为 GB/T14849的第5部分。
本部分按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本部分代替 GB/T14849.5—2010《工业硅化学分析方法 第5部分:元素含量的测定 X 射线荧光光谱法》。
本部分与 GB/T14849.5—2010相比,主要有如下变动:
———增加了规范性引用文件;
———增加了锰、镍、钛、铜、磷、镁、铬、钒、钴的检测;
———样品应破碎通过0.074mm 筛,改为应能通过0.149mm 标准筛;
———将粘结剂硼酸改为淀粉或硼酸;
———将试料中压片压力20kN,保压时间20s,改为30t压力下保压30s;
———补充了重复性限及再现性限,增加了试验报告。
本部分由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
本部分负责起草单位:昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司山东分公司、云南永昌硅业股份有限公司。
本部分参加起草单位:中国铝业股份有限公司郑州研究院、通标标准技术服务有限公司、包头铝业有限公司、蓝星硅材料有限公司、昆明冶研新材料股份有限公司、云南出入境检验检疫局。
本部分主要起草人:刘英波、赵德平、杨海岸、周杰、杨毅、张爱玲、胡智弢、张晓平、刘汉士、刘维理、马启坤、唐飞、白万里、王宏磊、常智杰、聂恒声、金波、王云舟。
本部分所代替标准的历次版本发布情况为:
———GB/T14849.5—2010。

GB/T 14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、镍、钛、铜、磷、镁、铬、钒、钴含量的测定方法。
本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、镍、钛、铜、磷、镁、铬、钒、钴含量的测定，测定范围见表1。

下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T8170 数字修约规则与极限数值的表示和判定

GB/T 14849.5-2010

GB/T 8170

全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

中国有色金属工业协会

昆明冶金研究院 云南永昌硅业股份有限公司 中国铝业股份有限公司山东分公司