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GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 14849.4-2014
  • 名称：
    工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
  • 英文名称：
    Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2014-12-05
  • 实施日期：
    2015-08-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《热交换器》等234项国家标准的公告】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    GB/T14849《工业硅化学分析方法》分为9个部分:
    ———第1部分:铁含量的测定 1,10-二氮杂菲分光光度法;
    ———第2部分:铝含量的测定 铬天青-S分光光度法;
    ———第3部分:钙含量的测定 火焰原子吸收光谱法、偶氮氯膦Ⅰ分光光度法;
    ———第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法;
    ———第5部分:杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法;
    ———第6部分:碳含量的测定 红外吸收法;
    ———第7部分:磷含量的测定 钼蓝分光光度法;
    ———第8部分:铜含量的测定 PADAP分光光度法;
    ———第9部分:钛含量的测定 二安替比林甲烷分光光度法。
    本部分为 GB/T14849的第4部分。
    本部分按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。
    本部分代替 GB/T14849.4—2008《工业硅化学分析方法 第4部分:电感耦合等离子体发射光谱法测定元素含量》。与 GB/T14849.4—2008相比,主要技术变化如下:
    ———增加了铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼的检测;
    ———增加了两种溶样方式;
    ———补充了重复性限、再现性限实验数据。
    本部分由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
    本部分负责起草单位:昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司郑州研究院、昆明冶研新材料股份有限公司。
    本部分参加起草单位:云南出入境检验检疫局技术中心、通标标准技术服务有限公司、浙江合盛硅业有限公司、云南永昌硅业股份有限公司。
    本部分主要起 草 人:刘 维 理、王 劲 榕、李 跃 平、赵 德 平、杨 毅、赵 建 为、王 云 舟、王 宏 磊、聂 长 虹、刘英波、卢国洪、吴豫强、张云晖、谭少姬、程志武、周杰。
    本部分所代替标准的历次版本发布情况为:
    ———GB/T14849.4—2008。
  • 适用范围：
    GB/T 14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼含量的测定方法。
    本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼量的测定。各元素测定范围见表1。
  • 引用标准：
    下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
    GB/T6682 分析实验室用水规格和试验方法
    GB/T8170 数值修约规则与极限数值的表示和判定
相关标准
  • 代替标准：
    GB/T 14849.4-2008
  • 引用标准：
    GB/T 6682 GB/T 8170
相关部门
  • 归口单位：
    全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
  • 主管部门：
    中国有色金属工业协会
  • 起草单位：
    昆明冶金研究院 昆明冶研新材料股份有限公司 中国铝业股份有限公司郑州研究院
相关人员
暂无
关联标准