YS/T 1025-2015

电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材

High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film

2015-04-30

2015-10-01

暂无

实施公告【2015年第7号(总第187号)】

本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。
本标准起草单位:宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司、株洲凯特实业有限公司、西安方科新材料科技有限公司。
本标准主要起草人:姚力军、王学泽、丁照崇、张涛、扶元初、袁海军、郑文翔、宋佳、苏国平、钱红兵、袁洁、王兴权、张玉利、王越、杜铁路。

本标准规定了电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、订货单(或合同)等内容。
本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材以下简称高纯钨及钨合金靶。

下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T1031 产品几何技术规范(GPS) 表面结构 轮廓法 表面粗糙度参数及其数值
GB/T1804 一般公差 未注公差的线性和角度尺寸的公差
GB/T3850 致密烧结金属材料与硬质合金密度测定方法
GB/T4324.23 钨化学分析方法 第23部分:硫量的测定 燃烧电导法和高频燃烧红外吸收法
GB/T4324.25 钨化学分析方法 第25部分:氧量的测定 脉冲加热惰气熔融-红外吸收法
GB/T4324.26 钨化学分析方法 第26部分:氮量的测定 脉冲加热惰气熔融-热导法和奈氏试剂分光光度法
GB/T4324.27 钨化学分析方法 第27部分:碳量的测定 高频燃烧红外吸收法
GB/T6394 金属平均晶粒度测定法
GB/T8651 金属板材超声波板探伤方法
YS/T837 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
YS/T900 高纯钨化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
YS/T901 高纯钨化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法

GB/T 1031 GB/T 1804 GB/T 3850 GB/T 4324.23 GB/T 4324.25 GB/T 4324.26 GB/T 4324.27 GB/T 6394 GB/T 8651 YS/T 837 YS/T 900 YS/T 901

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