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YS/T 1024-2015 溅射用钽靶材

Tantalum sputtering targets
基本信息
  • 标准号：
    YS/T 1024-2015
  • 名称：
    溅射用钽靶材
  • 英文名称：
    Tantalum sputtering targets
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    行业标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2015-04-30
  • 实施日期：
    2015-10-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【2015年第7号(总第187号)】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
    本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。
    本标准起草单位:宁夏东方钽业股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司、西安方科新材料科技有限公司。
    本标准主要起草人:钟景明、李桂鹏、汪凯、李兆博、姚力军、熊晓东、王莉、宿康宁、王小青、杜铁路。
  • 适用范围：
    本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。
    本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材(以下简称钽靶材)。
  • 引用标准：
    下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
    GB/T1804 一般公差 未注公差的线性和角度尺寸的公差
    GB/T4340.1 金属材料 维氏硬度试验 第1部分:试验方法
    GB/T6394 金属平均晶粒度测定方法
    GB/T8651 金属板材超声板波探伤方法
    GB/T15076.8 钽铌化学分析方法 碳量和硫量的测定
    GB/T15076.13 钽铌化学分析方法 钽中氮量的测定
    GB/T15076.14 钽铌化学分析方法 氧量的测定
    GB/T15076.15 钽铌化学分析方法 氢量的测定
    GB/T20967—2007 无损检测 目视检测 总则
    YS/T837 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
    YS/T899 高纯钽化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 1804 GB/T 4340.1 GB/T 6394 GB/T 8651 GB/T 15076.8 GB/T 15076.13 GB/T 15076.14 GB/T 15076.15 GB/T 20967-2007 YS/T 837 YS/T 899
相关部门
  • 起草单位：
    宁夏东方钽业股份有限公司 有研亿金新材料有限公司 宁波江丰电子材料股份有限公司 西安方科新材料科技有限公司
相关人员
暂无
关联标准