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YS/T 1053-2015 电子薄膜用高纯钴靶材

High-purity cobalt sputtering target used in electronic film
基本信息
  • 标准号：
    YS/T 1053-2015
  • 名称：
    电子薄膜用高纯钴靶材
  • 英文名称：
    High-purity cobalt sputtering target used in electronic film
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    行业标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2015-04-30
  • 实施日期：
    2015-10-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【2015年第7号(总第187号)】
分类信息
描述信息
  • 前言：
    本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
    本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。
    本标准负责起草单位:宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司。
    本标准主要起草人:王学泽、李勇军、郑文翔、罗俊锋、袁海军、熊晓东、陈勇军、刘丹、陆彤、袁洁、张涛。
  • 适用范围：
    本标准规定了电子薄膜用高纯钴靶材(以下简称高纯钴靶)的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容。
    本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯钴靶。
  • 引用标准：
    下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
    GB/T1804 一般公差 未注公差的线性和角度尺寸的公差
    GB/T2828.1 计数抽样检验程序 第1部分:按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划
    GB/T6394 金属平均晶粒度测定方法
    GB/T8651 金属板材超声板波探伤方法
    GB/T14265 金属材料中氢、氧、氮、碳和硫分析方法通则
    YS/T837 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
    YS/T1011 高纯钴化学分析方法 杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
相关标准
  • 引用标准：
    GB/T 1804 GB/T 2828.1 GB/T 6394 GB/T 8651 GB/T 14265 YS/T 837 YS/T 1011
相关部门
  • 起草单位：
    有研亿金新材料有限公司 宁波江丰电子材料股份有限公司
相关人员
暂无
关联标准