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YS/T 23-2016 硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法

Test method for thickness of epitaxial layers—Stacking fault size
基本信息
  • 标准号：
    YS/T 23-2016
  • 名称：
    硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法
  • 英文名称：
    Test method for thickness of epitaxial layers—Stacking fault size
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    行业标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2016-04-05
  • 实施日期：
    2016-09-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【2016年第6号(总第198号)】
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分类信息
  • ICS分类：
    【 冶金（77） 金属材料试验（77.040） 】
  • CCS分类：
    【 冶金（H） 金属理化性能试验方法（H20/29） 金属物理性能试验方法（H21） 】
  • 行标分类：
    【 有色冶金（YS） 】
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    本标准规定了利用堆垛层错尺寸法测量硅外延层厚度的方法。
    本标准适用于在〈111〉、〈100〉和〈110〉晶向的硅单晶衬底上生长的2 μm～120 μm硅外延层厚度的测量。
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 代替标准：
    YS/T 23-1992
  • 引用标准：
    GB/T 14264 GB/T 14847
相关部门
暂无
相关人员
暂无
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