收藏到云盘
纠错反馈
YS/T 1167-2016 硅单晶腐蚀片
Monocrystalline silicon etched wafers基本信息
- 标准号:YS/T 1167-2016
- 名称:硅单晶腐蚀片
- 英文名称:Monocrystalline silicon etched wafers
- 状态:现行
- 类型:行业标准
- 性质:推荐性
- 发布日期:2016-07-11
- 实施日期:2017-01-01
- 废止日期:暂无
- 相关公告:
分类信息
- ICS分类:【 】
- CCS分类:【 】
- 行标分类:【 】
描述信息
- 前言:暂无
- 适用范围:本标准规定了硅单晶腐蚀片的牌号及分类、要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。
本标准适用于直拉法、悬浮区熔法(包括区熔中子嬗变和气相掺杂)制备的硅单晶研磨片经化学腐蚀液去除表面损伤层后制备的酸腐蚀片和碱腐蚀片(以下简称腐蚀片)。产品主要用于制作晶体管、整流管、特大功率晶闸管、光电器件等半导体元器件或进一步加工成硅抛光片。 - 引用标准:暂无
相关标准
- 引用标准:GB/T 1550 GB/T 1555 GB/T 2828.1 GB/T 6616 GB/T 6618 GB/T 6620 GB/T 11073 GB/T 12962 GB/T 12965 GB/T 13387 GB/T 13388 GB/T 14140 GB/T 14264 GB/T 14844 GB/T 20503 GB/T 26067 GB/T 29505 GB/T 30453 YS/T 26 YS/T 28
相关部门
暂无
相关人员
暂无
关联标准
- YS/T 1153-2016 低铁锌锭
- YS/T 625-2012 预焙阳极用煅后石油焦
- YS/T 59-1993 热喷焊用Ni-Cr-B-Si系+WC自熔合金粉
- YS/T 539.7-2009 镍基合金粉化学分析方法 第7部分:钴量的测定 亚硝基R盐分光光度法
- YS/T 63.16-2006 铝用碳素材料检测方法 第16部分:微量元素的测定 X射线荧光光谱分析方法
- YS/T 521.2-2019 粗铜化学分析方法 第2部分:金和银含量的测定 干湿火试金法和直接火试金法
- YS/T 360.5-2011 钛铁矿精矿化学分析方法 第5部分:二氧化硅量的测定 硅钼蓝分光光度法
- YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
- YS/T 990.10-2014 冰铜化学分析方法 第10部分:二氧化硅量的测定 硅钼蓝分光光度法和氟硅酸钾滴定法
- YS/T 519.2-2009 砷化学分析方法 第2部分:锑量的测定 孔雀绿分光光度法
- YS/T 1078-2015 钒铝锡铬中间合金
- YS/T 434-2000 铝塑复合管用铝及铝合金带材
- YS/T 252.5-2007 高镍锍化学分析方法 硫量的测定 燃烧-中和滴定法
- YS/T 7-2008 铝电解多功能机组
- YS/T 281.8-2011 钴化学分析方法 第8部分:镉量的测定 火焰原子吸收光谱法
- GB/T 32573-2016 硅粉 总碳含量的测定 感应炉内燃烧后红外吸收法
- YS/T 75-1994 炼钢脱氧和部分铁合金用铝锭
- YS/T 649-2018 铜及铜合金挤制棒
- YS/T 431-2009 铝及铝合金彩色涂层板、带材
- YS/T 88-1995 铜、铅电解阳极泥化学分析方法 火试金重量法测定金量和银量