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GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
基本信息
  • 标准号：
    GB/T 24578-2015
  • 名称：
    硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
  • 英文名称：
    Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
  • 状态：
    现行
  • 类型：
    国家标准
  • 性质：
    推荐性
  • 发布日期：
    2015-12-10
  • 实施日期：
    2017-01-01
  • 废止日期：
    暂无
  • 相关公告：
    实施公告【关于批准发布《内六角平圆头螺钉》等296项国家标准的公告】
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分类信息
  • ICS分类：
    【 冶金（77） 金属材料试验（77.040） 】
  • CCS分类：
    【 冶金（H） 金属化学分析方法（H10/19） 半金属及半导体材料分析方法（H17） 】
  • 行标分类：
    暂无
描述信息
  • 前言：
    暂无
  • 适用范围：
    暂无
  • 引用标准：
    暂无
相关标准
  • 代替标准：
    GB/T 24578-2009
  • 引用标准：
    GB/T 14264 GB 50073-2013
相关部门
  • 归口单位：
    2) 全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203) 203/SC 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC
  • 主管部门：
    国家标准化管理委员会
  • 起草单位：
    浙江省硅材料质量检验中心 有研新材料股份有限公司 万向硅峰电子股份有限公司
相关人员
暂无
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